【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內(nèi)壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個月（雨季減半），需更換新油。方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開機前，要注意檢漏。方法：啟動維持泵，關(guān)好da門，數(shù)分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕，否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴散泵油會燒環(huán)，真空鍍膜設(shè)備無法進入工作狀態(tài)。真空鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?福建大直徑射頻離子源生產(chǎn)廠家

【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。適用材料：1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。2、自然材料不適合進行真空電鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空環(huán)境。工藝成本：真空電鍍過程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再噴涂，所以人力成本相當高，但是也取決于工件的復雜度和數(shù)量。環(huán)境影響：真空電鍍對環(huán)境污染很小，類似于噴涂對環(huán)境的影響。福建大直徑射頻離子源生產(chǎn)廠家廣東真空鍍膜機廠家。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導電與否，可分為導電真空鍍膜（VM）和不導電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當操作不當應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。首先啟動維持泵，關(guān)好da門，數(shù)分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到標準，否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。離子真空鍍膜機是什么？

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。成都真空鍍膜機的生產(chǎn)廠家。陜西大直徑射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

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    葉片2的首端21靠近底座1的一側(cè)面上設(shè)有可伸入定位孔12中轉(zhuǎn)動的固定軸23，也即葉片2的轉(zhuǎn)動是繞固定軸23進行的，當然葉片2與底座1間的轉(zhuǎn)動連接還可以是其它方式，比如在葉片2上設(shè)置定位孔而在底座1上設(shè)置固定軸等方式；葉片2遠離底座1的一側(cè)面上設(shè)有導柱24，導柱24的設(shè)置位置相對固定軸23靠近葉片2的尾端22，滑環(huán)41上設(shè)有可供導柱24伸入其中滑動并在滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時帶動葉片2的尾端22繞葉片2的首端21轉(zhuǎn)動的導槽42，同樣的，也可以將導柱設(shè)置在滑環(huán)41上而將導槽設(shè)置在葉片2上，同時，為了使滑環(huán)41轉(zhuǎn)動時，光闌3的大小調(diào)節(jié)速度更為均勻穩(wěn)定，將導槽42設(shè)置為與葉片2的圓弧形狀彎曲方向一致的弧形，這樣也可以使得束徑約束器外觀更為美觀。作為一種推薦實施例，滑環(huán)41的外周設(shè)有齒圈43，驅(qū)動組件包括能與齒圈43嚙合的齒輪44及驅(qū)動齒輪44轉(zhuǎn)動的伺服電機45，伺服電機45可以固定在底座1上。當然，可以想象，能夠?qū)崿F(xiàn)滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)的方式還可以是其它方式，比如采用皮帶、鏈條結(jié)合電機進行，或者在滑環(huán)41外周設(shè)置外螺紋并采用絲桿進行驅(qū)動。如圖7所示。福建大直徑射頻離子源生產(chǎn)廠家