本發(fā)明的優(yōu)點在于：本申請的束徑約束器通過驅(qū)動組件驅(qū)動滑環(huán)旋轉(zhuǎn)，以使葉片轉(zhuǎn)動來進(jìn)行光闌的大小調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)方便且調(diào)節(jié)精度高；而采用包含該束徑約束器的束徑控制裝置進(jìn)行束徑調(diào)節(jié)時，通過在控制器上輸入離子束束徑值即可實現(xiàn)光闌大小的調(diào)節(jié)，無需關(guān)閉離子源和打開真空腔體，調(diào)節(jié)效率高、自動化程度好。附圖說明圖1為現(xiàn)有技術(shù)中采用曲面柵網(wǎng)調(diào)節(jié)束徑的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本申請中離子束采用平面柵網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請中束徑約束器結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖3的示意圖。圖5為為圖4的進(jìn)一步示意圖。圖6為本申請中的葉片結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為本申請中的束徑控制裝置的示意圖。具體實施方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，*用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。如圖3至6所示為本申請的束徑約束器的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，該射頻離子源離子束束徑約束器，包括底座1、多個葉片2及驅(qū)動機(jī)構(gòu)，底座1上設(shè)置有可供離子束穿過的中空結(jié)構(gòu)11，多個葉片2設(shè)于底座1一端并環(huán)繞底座1的中空結(jié)構(gòu)11呈圓周排布。真空鍍膜機(jī)品牌有很多，你如何選擇？甘肅離子束刻蝕射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)

    葉片2的首端21靠近底座1的一側(cè)面上設(shè)有可伸入定位孔12中轉(zhuǎn)動的固定軸23，也即葉片2的轉(zhuǎn)動是繞固定軸23進(jìn)行的，當(dāng)然葉片2與底座1間的轉(zhuǎn)動連接還可以是其它方式，比如在葉片2上設(shè)置定位孔而在底座1上設(shè)置固定軸等方式；葉片2遠(yuǎn)離底座1的一側(cè)面上設(shè)有導(dǎo)柱24，導(dǎo)柱24的設(shè)置位置相對固定軸23靠近葉片2的尾端22，滑環(huán)41上設(shè)有可供導(dǎo)柱24伸入其中滑動并在滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時帶動葉片2的尾端22繞葉片2的首端21轉(zhuǎn)動的導(dǎo)槽42，同樣的，也可以將導(dǎo)柱設(shè)置在滑環(huán)41上而將導(dǎo)槽設(shè)置在葉片2上，同時，為了使滑環(huán)41轉(zhuǎn)動時，光闌3的大小調(diào)節(jié)速度更為均勻穩(wěn)定，將導(dǎo)槽42設(shè)置為與葉片2的圓弧形狀彎曲方向一致的弧形，這樣也可以使得束徑約束器外觀更為美觀。作為一種推薦實施例，滑環(huán)41的外周設(shè)有齒圈43，驅(qū)動組件包括能與齒圈43嚙合的齒輪44及驅(qū)動齒輪44轉(zhuǎn)動的伺服電機(jī)45，伺服電機(jī)45可以固定在底座1上。當(dāng)然，可以想象，能夠?qū)崿F(xiàn)滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)的方式還可以是其它方式，比如采用皮帶、鏈條結(jié)合電機(jī)進(jìn)行，或者在滑環(huán)41外周設(shè)置外螺紋并采用絲桿進(jìn)行驅(qū)動。如圖7所示。真空鍍膜射頻離子源多少錢射頻離子源采用高頻電場來加速和離子化氣體分子，產(chǎn)生高能離子束。

【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。系統(tǒng)原理通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動化控制器:e-ControlPLC，是控制系統(tǒng)的硬件平臺。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦，穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺，提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級)，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出光學(xué)真空鍍膜機(jī)制造商。

【真空鍍膜機(jī)常見故障】:一、當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降1.蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈）2.坩堝被打穿（更換坩堝）3.高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈）4.工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈）5.預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）6.高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥）7.機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常）8.烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈）9.擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈）10.玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃）二、長期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時間很長且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空：1.蒸發(fā)室有很多粉塵（應(yīng)清洗）2.擴(kuò)散泵很久未換油（應(yīng)清洗換油）3.前級泵反壓強(qiáng)da太機(jī)械泵真空度太低（應(yīng)清洗換油）4.各動密封膠圈損壞（更換膠圈）5.由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈）6.蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈）7.各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象（重新壓緊）8.高低預(yù)閥是否密封可靠（注油）射頻離子源，實現(xiàn)高精度鍍膜。真空鍍膜射頻離子源多少錢

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【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等2.磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)域，如太陽能集熱管、太陽能電池等4.AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。8.蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。9.低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。10.抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌上電腦等。甘肅離子束刻蝕射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)