本申請還涉及一種射頻離子源離子束束徑控制方法，也即采用上述束徑控制裝置進(jìn)行離子束束徑控制的方法，包括以下步驟：s1，對真空腔體5進(jìn)行抽真空；s2，打開離子束發(fā)生器7，調(diào)整電壓電流參數(shù)；s3，在控制器6的輸入界面中輸入離子束束徑值；s4，點擊控制器6的執(zhí)行按鈕，控制器6向驅(qū)動器8發(fā)出指令，驅(qū)動器8控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作；s5，驅(qū)動組件驅(qū)動滑環(huán)41轉(zhuǎn)動并帶動導(dǎo)柱24在導(dǎo)槽42中滑動，葉片2繞固定軸23轉(zhuǎn)動使光闌3大小與輸入的離子束束徑值一致。下面給出一種采用該方法進(jìn)行拋光的具體步驟：1、打開離子束拋光系統(tǒng)電源、水冷裝置、工作氬氣等；2、放置光學(xué)元件，采用合適夾具將光學(xué)元件固定；3、對真空腔體進(jìn)行抽真空，保證實驗的真空狀態(tài)，且真空腔體壓強(qiáng)需達(dá)到×10-3pa以上；4、打開離子源也即離子束發(fā)生器，調(diào)整好離子源的電壓電流等參數(shù)；5、根據(jù)被拋光元件尺寸及檢測后的面形參數(shù)情況選擇離子束束徑，將離子束束徑參數(shù)輸入控制器的計算機(jī)控制界面；6、點擊控制器的執(zhí)行按鈕，控制器向驅(qū)動器發(fā)出指令，驅(qū)動器控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作；7，伺服電機(jī)驅(qū)動滑環(huán)轉(zhuǎn)動并帶動導(dǎo)柱在導(dǎo)槽中滑動，葉片繞固定軸轉(zhuǎn)動使光闌大小與輸入的離子束束徑值一致；8、控制離子束垂直入射法拉第杯。射頻離子源可用于制備納米材料、薄膜、光學(xué)器件等高科技產(chǎn)品。天津光學(xué)薄膜射頻離子源廠家

    本發(fā)明涉及離子束濺射鍍膜及超精密拋光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種射頻離子源離子束束徑約束器、束徑控制裝置及方法。背景技術(shù)：離子束超精密加工研究中，離子源起著非常重要的作用。離子源是產(chǎn)生離子束流的裝置，又是離子束設(shè)備中的關(guān)鍵部件。不論是光學(xué)薄膜的制備還是納米尺度的離子束刻蝕和拋光，高性能的離子束流都是不可缺少的。目前采用的離子束源主要有考夫曼離子源、微波ecr離子源和射頻離子源，其工作原理是利用氣體放電產(chǎn)生等離子體，等離子體由電子、離子和中性粒子所組成，并被引出成束，成為離子源。射頻離子源由德國giessen大學(xué)，，從電火箭空間應(yīng)用向地面應(yīng)用擴(kuò)展而來。這種離子源具有結(jié)構(gòu)簡單、無極放電的優(yōu)點，因而對任何氣體特別是反應(yīng)氣體具有長壽命、效率高的特點。采用射頻離子源鍍制的膜層具有吸收少、漂移小、效率高、致密性好、牢固性高等優(yōu)點；同時，射頻離子源離子束拋光在超精密光學(xué)元件的**終加工中應(yīng)用也非常***，是一種去除精度達(dá)到原子級別的拋光技術(shù)，被認(rèn)為是加工精度**高，修形效果**好的光學(xué)元件修形技術(shù)，在此過程中，具有一定能量和空間分布的離子束流轟擊光學(xué)元件表面，利用轟擊時發(fā)生的物理濺射效應(yīng)去除光學(xué)元件表面材料。山西光學(xué)薄膜射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)公司的排名。

    所述葉片遠(yuǎn)離底座的一側(cè)面上設(shè)有相較固定軸位置靠近葉片尾端的導(dǎo)柱，所述滑環(huán)上設(shè)有可供導(dǎo)柱伸入其中滑動以在滑環(huán)旋轉(zhuǎn)時帶動葉片的尾端繞葉片首端轉(zhuǎn)動的導(dǎo)槽，所述導(dǎo)槽呈弧形設(shè)置。進(jìn)一步的，所述滑環(huán)的外周設(shè)有齒圈，所述驅(qū)動組件包括能與齒圈嚙合的齒輪及驅(qū)動齒輪轉(zhuǎn)動的伺服電機(jī)。一種射頻離子源離子束束徑控制裝置，其特征在于：包括一真空腔體、控制器以及設(shè)于真空腔體中的離子束發(fā)生器、束徑約束器和驅(qū)動器，所述束徑約束器設(shè)置在離子束發(fā)生器前端，所述驅(qū)動器與束徑約束器的驅(qū)動機(jī)構(gòu)相連以控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作，所述控制器分別與束徑約束器及驅(qū)動器相連。進(jìn)一步的，所述離子束發(fā)生器包括離子束發(fā)生器外壁以及位于離子束發(fā)生器外壁內(nèi)并位于離子束前端的平面柵網(wǎng)。進(jìn)一步的，所述驅(qū)動器為微型電機(jī)。一種射頻離子源離子束束徑控制方法，其特征在于：s1，對真空腔體進(jìn)行抽真空；s2，打開離子束發(fā)生器，調(diào)整電壓電流參數(shù)；s3，在控制器的輸入界面中輸入離子束束徑值；s4，點擊控制器的執(zhí)行按鈕，控制器向驅(qū)動器發(fā)出指令，驅(qū)動器控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)動作；s5，驅(qū)動組件驅(qū)動滑環(huán)轉(zhuǎn)動并帶動導(dǎo)柱在導(dǎo)槽中滑動，葉片繞固定軸轉(zhuǎn)動使光闌大小與輸入的離子束束徑值一致。與現(xiàn)有技術(shù)相比。

【機(jī)械泵分類】機(jī)械泵有很多種，常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。機(jī)械泵是從da氣開始工作的，它的主要參數(shù)有極限真空，抽氣速率，此為設(shè)計與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空，雙級機(jī)械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕，甚至更高。抽氣速率，是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運轉(zhuǎn)時，單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積，可以用下公式計算：Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸氣結(jié)束時空腔截面積，L表示空腔長度，系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程，Vs表示當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時候，吸氣結(jié)束，此時空腔內(nèi)的體積da，轉(zhuǎn)速為n。機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系，當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松，電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時候，機(jī)械泵的排氣效果也會變差，所以要經(jīng)常保養(yǎng)，點檢，機(jī)械泵油的密封效果也需要常常點檢，油過少，達(dá)不到密封效果，泵內(nèi)會漏氣，油過多，把吸氣孔堵塞，無法吸氣和排氣，一般，在油位在線下0.5厘米即可。真空鍍膜機(jī)抽真空步驟。

直流電源電壓紋波做了二次濾波處理，高壓輸出的紋波小于50mV，離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好，鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同阻抗快速點火。真空鍍膜機(jī)廠家qian十。山西光學(xué)薄膜射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

國產(chǎn)真空鍍膜機(jī)廠商推薦。天津光學(xué)薄膜射頻離子源廠家

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。（3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。天津光學(xué)薄膜射頻離子源廠家