【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下,為了得到原子級清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時,這種處理方法也會產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較da的團粒,并同時分解成碳渣。真空鍍膜機該如何維修。湖北光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源源頭實力廠家
【機械泵分類】機械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。機械泵是從da氣開始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計與選用機械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級機械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運轉(zhuǎn)時,單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計算:Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸氣結(jié)束時空腔截面積,L表示空腔長度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程,Vs表示當轉(zhuǎn)子處于水平位置的時候,吸氣結(jié)束,此時空腔內(nèi)的體積da,轉(zhuǎn)速為n。機械泵排氣的效果還與電機的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當電機的皮帶比較松,電機轉(zhuǎn)速很慢的時候,機械泵的排氣效果也會變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點檢,機械泵油的密封效果也需要常常點檢,油過少,達不到密封效果,泵內(nèi)會漏氣,油過多,把吸氣孔堵塞,無法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。河南光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選真空鍍膜機的工作原理。
【不同類型鍍膜機應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設(shè)備:應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域,如磁信息存儲、磁光信息存儲等2.磁控濺射鍍膜機:應(yīng)用于防護涂層,如飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線:應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)域,如太陽能集熱管、太陽能電池等4.AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線:應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域,如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線:應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域,如手機、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備:應(yīng)用于硬質(zhì)涂層,如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產(chǎn)線:應(yīng)用于集成電路制造,如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。8.蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備:應(yīng)用于在裝飾飾品上,如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。9.低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線:應(yīng)用于建筑玻璃方面,如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。10.抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線:應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域,如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數(shù)碼相機和掌上電腦等。
【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如,在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加??招年帢O霍爾離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入等領(lǐng)域。
【真空鍍膜之金屬拉絲】金屬拉絲:是指通過研磨產(chǎn)品在工件表面形成線紋,并且起到裝飾效果的一種表面處理手段。根據(jù)拉絲后紋路的不同可分為:直紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋適用材料:幾乎所有的金屬材料都可以使用金屬拉絲工藝工藝成本:工藝方法簡單,設(shè)備需求簡單,材料消耗比較少,成本比較低廉,經(jīng)濟效益尤其高環(huán)境影響:純金屬制品,表面無油漆等任何化學(xué)化工物質(zhì),600度高溫不燃燒,不會產(chǎn)生有毒氣體,符合消防標準的環(huán)保要求成都真空鍍膜機的生產(chǎn)廠家。甘肅塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源源頭實力廠家
真空鍍膜機真空度多少?湖北光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源源頭實力廠家
【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生,在10-1—10Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬<5W/cm2。湖北光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源源頭實力廠家