【真空蒸鍍的歷史】:1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?!菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】:優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?湖南真空鍍膜設(shè)備原理
【真空蒸鍍的歷史】:1857年Michael FaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】:在真空狀態(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。 缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。中國(guó)臺(tái)灣真空鍍膜設(shè)備有什么作用真空鍍膜設(shè)備廠家排名。
真空鍍膜機(jī),顧名思義就是將工件放入真空室中,利用高氣壓使工件與氣體隔絕形成真空狀態(tài)后進(jìn)行鍍膜的一種工藝。由于這種工藝需要采用特殊的設(shè)備才能實(shí)現(xiàn),所以一般用于精密加工行業(yè)和電子行業(yè)等對(duì)產(chǎn)品精度要求較高的場(chǎng)合。真空鍍膜冷水機(jī)是專門為真空鍍膜而設(shè)計(jì)的制冷設(shè)備。它具有結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、效率高、噪音低等特點(diǎn);同時(shí)還可以提供多種冷凍水溫度供用戶選擇使用(如常溫型、高溫型)。下面我們就來了解一下它的工作原理:1、在機(jī)組內(nèi)裝有蒸發(fā)器及冷凝器各一臺(tái);2、當(dāng)機(jī)組啟動(dòng)時(shí)壓縮空氣經(jīng)壓縮機(jī)吸入到蒸發(fā)器內(nèi)與水換熱產(chǎn)生冷媒蒸汽并汽化吸出熱量的同時(shí)被冷凝成液體;3、冷卻后的冷媒蒸汽進(jìn)入冷凝器的下端回氣管內(nèi)再次吸收熱量變成液態(tài)冷媒返回壓縮機(jī)循環(huán)工作。4、經(jīng)過上述過程之后重新回到蒸發(fā)器的上端繼續(xù)完成一個(gè)循環(huán)過程,如此往復(fù)循環(huán)運(yùn)行達(dá)到連續(xù)制冷的目的。5、為了保證系統(tǒng)能正常的工作以及延長(zhǎng)使用壽命我們建議客戶在使用前先對(duì)機(jī)器內(nèi)部進(jìn)行清洗除垢以保證其良好的散熱效果和使用壽命!
【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之停電】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電: 對(duì)于停電這種情況,比較好處理,只要確認(rèn)前面鍍的沒錯(cuò),程序沒有用錯(cuò),就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時(shí),交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般時(shí)0.2~1nm左右),如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時(shí),要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不讀,通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)?
【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越大,表面越光滑,越直的管道流導(dǎo)也越大。 流量:?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)流過任意截面的氣體量,單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率:在一定的壓強(qiáng)和溫度下,單位時(shí)間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率,簡(jiǎn)稱抽速。單位一般為L(zhǎng)/S或m3/hr或CFM。 極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱為極限真空。 國(guó)產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備哪家好?安徽派瑞林真空鍍膜設(shè)備
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真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。② 打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦ 開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。湖南真空鍍膜設(shè)備原理