【真空鍍膜機之卷繞機構(gòu)設(shè)計中應(yīng)考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達(dá)到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構(gòu)的設(shè)計中應(yīng)充分考慮這一問題。離子真空鍍膜機是什么？福建大直徑射頻離子源批發(fā)價格

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級)，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機設(shè)備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出山西光學(xué)鍍膜射頻離子源多少錢國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。

國泰真空GTRF-17/GTRF-23射頻離子源直流源網(wǎng)滅弧采用特殊保護(hù)方式，可以在有效的保護(hù)網(wǎng)板的時候不停機，不會導(dǎo)致客戶產(chǎn)品報廢。柵網(wǎng)采用獨特的加工工藝，確保柵網(wǎng)之間的曲率和平行度，網(wǎng)孔的中心距也做精密的調(diào)整，使得投射出來的離子束更均勻。射頻中和器采用L型接法匹配：匹配速度快，效率高，點火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理，防止拆卸過程卡死，備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨裝配在一個電柜內(nèi)，RF線纜做防輻射和泄漏處理，避免對通訊、控制信號的干擾，同時也做良好的散熱處理。

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。此外，真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。射頻離子源是未來科技發(fā)展的重要方向，具有廣闊的應(yīng)用前景。

【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuumcoating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法?；瑂ubstrate：膜層承受體。試驗基片testingsubstrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和（或）試驗的基片。鍍膜材料coatingmaterial：用來制取膜層的原材料。蒸發(fā)材料evaporationmaterial：在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。濺射材料sputteringmaterial：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。膜層材料(膜層材質(zhì))filmmaterial：組成膜層的材料。蒸發(fā)速率evaporationrate：在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔濺射速率sputteringrate：在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。沉積速率depositionrate：在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。鍍膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。射頻離子源可用于航空航天領(lǐng)域，如推進(jìn)系統(tǒng)、導(dǎo)航系統(tǒng)等。吉林離子束清洗射頻離子源制造生產(chǎn)

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【真空鍍膜真空的基本概念】：真空的劃分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr極高真空<10E&12Torr流導(dǎo)（導(dǎo)通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越da，表面越光滑，越直的管道流導(dǎo)也越da。流量：單位時間內(nèi)流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。極限真空：真空容器經(jīng)充分抽氣后，穩(wěn)定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。福建大直徑射頻離子源批發(fā)價格