本申請中涉及的一種射頻離子源離子束束徑控制裝置具體包括一真空腔體5、控制器6以及設(shè)于真空腔體5中的離子束發(fā)生器7、束徑約束器0和驅(qū)動(dòng)器8，該束徑約束器0即采用葉片2進(jìn)行光闌3大小調(diào)整的束徑約束器0，該束徑約束器0設(shè)置在離子束發(fā)生器7前端，驅(qū)動(dòng)器8與束徑約束器0的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連以控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作，控制器6分別與束徑約束器0及驅(qū)動(dòng)器8相連。本實(shí)施例中，真空腔體5的真空度×10-3pa以上，驅(qū)動(dòng)器8為微型電機(jī)，離子束發(fā)生器7包括離子束發(fā)生器外壁71以及位于離子束發(fā)生器外壁71內(nèi)并位于離子束前端的平面柵網(wǎng)72，控制器6為計(jì)算機(jī)，在計(jì)算機(jī)中編寫matlab控制代碼，通過代碼程序執(zhí)行，微型電機(jī)啟動(dòng)，并控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作，也即對伺服電機(jī)45進(jìn)行控制，伺服電機(jī)45使用絕對式編碼器進(jìn)行定位，伺服電機(jī)45驅(qū)動(dòng)齒輪44轉(zhuǎn)動(dòng)并通過齒圈43帶動(dòng)滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)，滑環(huán)41旋轉(zhuǎn)時(shí)，通過導(dǎo)槽42帶動(dòng)葉片2繞固定軸23轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使葉片2的尾端22相交組成的光闌3的孔徑大小發(fā)生變化，也即實(shí)現(xiàn)離子束束徑的調(diào)節(jié)，**后將光闌3的孔徑大小信息反饋給計(jì)算機(jī)。束徑約束器0采用附圖中的設(shè)置方向時(shí)，滑環(huán)41順時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)，光闌3孔徑減小，滑環(huán)41逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)，光闌3孔徑變大。真空鍍膜機(jī)使用時(shí)，需要注意哪些問題?湖南離子束刻蝕射頻離子源生產(chǎn)廠家

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。福建大直徑射頻離子源真空鍍膜機(jī)是什么樣的？

【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)全自主研發(fā)近3年時(shí)間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源，屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖，同時(shí)也激勵(lì)了國內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級，在國內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級)，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出射頻離子源可用于航空航天領(lǐng)域，如推進(jìn)系統(tǒng)、導(dǎo)航系統(tǒng)等。

【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分。光學(xué)真空鍍膜機(jī)制造商。射頻離子源價(jià)格

錦成國泰真空鍍膜機(jī)怎么樣？湖南離子束刻蝕射頻離子源生產(chǎn)廠家

    本發(fā)明的另一目的在于提供一種便于進(jìn)行束徑調(diào)節(jié)的束徑控制裝置。本發(fā)明的另一目的還在于提供一種束徑控制方法。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種射頻離子源離子束束徑約束器，其特征在于：所述束徑約束器包括具有可供離子束穿過的中空結(jié)構(gòu)的底座、多個(gè)葉片及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述多個(gè)葉片設(shè)于底座一端并環(huán)繞中空結(jié)構(gòu)呈圓周排布，多個(gè)葉片的尾端伸入中空結(jié)構(gòu)所在區(qū)域以圍合形成可供離子束穿過的光闌，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可驅(qū)動(dòng)葉片的尾端相對葉片排布形成的圓周中心運(yùn)動(dòng)以調(diào)節(jié)光闌大小。進(jìn)一步的，所述葉片的首端與底座的對應(yīng)端面轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述葉片的尾端沿葉片排布形成的圓周周向依次疊放并斜向伸入所述中空結(jié)構(gòu)所在區(qū)域以形成所述光闌；所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括滑環(huán)及驅(qū)動(dòng)滑環(huán)繞滑環(huán)中心旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)組件，所述滑環(huán)位于多個(gè)葉片的遠(yuǎn)離底座的一側(cè)并與多個(gè)葉片排布形成的圓周同軸設(shè)置，滑環(huán)旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)葉片的尾端繞葉片的首端轉(zhuǎn)動(dòng)以實(shí)現(xiàn)光闌大小調(diào)節(jié)。進(jìn)一步的，所述葉片呈與多個(gè)葉片排布形成的圓周同向彎曲的圓弧狀。進(jìn)一步的，所述底座的所述一端端面上設(shè)有多個(gè)呈圓周布置的定位孔，所述葉片的首端靠近底座的一側(cè)面上設(shè)有可伸入定位孔中轉(zhuǎn)動(dòng)的固定軸。進(jìn)一步的。湖南離子束刻蝕射頻離子源生產(chǎn)廠家