【鍍膜玻璃的主要產生法之化學沉積法】化學氣相沉積(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有構成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質氣體，供給基板，利用氣相反應，在基板表面上反應沉積出所需固體薄膜的工藝技術，該技術已成為鍍膜玻璃生產的主要制備技術。在線CVD法鍍膜技術，是在浮法玻璃生產過程中，連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術，是目前世界上比較先進的鍍膜玻璃生產技術。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之，薄膜沉積前，玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進人退火窯，且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜，而我國*早是用該法生產硅質鍍膜玻璃。目前，我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術，能夠穩(wěn)定地生產硅質鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產線包括：原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。光學鍍膜機品牌有很多，認準成都國泰真空設備有限公司。北京國產光學鍍膜機南光

二、光學鍍膜機的保養(yǎng)（一）定期更換擴散泵油擴散泵油使用一段時間，約二個月（兩班），因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時才啟動擴散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應，擴散泵油在高溫下也可能產生裂解，使其品質下降，而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時，應予更換。（二）真空泵機械泵油、維持泵油在使用二個月，油質會發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設備，在使用頭半個月即應更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。（三）清潔衛(wèi)生定期將設備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好，常保持設備內外清潔，將設備周圍環(huán)境整理有條，有一個好的工作環(huán)境，以保安全。遼寧光學鍍膜機開機光學鍍膜機可以制造出具有不同波長的光學薄膜，可以用于制造多種光學器件。

光學鍍膜由薄膜層組合而成，它會產生干涉效應來改變光學系統(tǒng)的透射或反射性能。光學鍍膜的性能取決于層數、每層的厚度和不同層之間的折射率。精密光學中常見鍍膜類型有：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和濾光片膜（短波通，長波通，陷波等）。增透膜適用于大多數折射光學件，可以增大光通量并減少不必要的反射。高反射膜可以在單個波長或某段波長范圍內提供比較大反射，多用于反射鏡。分光鏡膜用于將入射光分為透射光和反射光輸出。濾光片鍍膜適用于大量生命科學和醫(yī)學應用，能夠以特定波長透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學還可以提供各種定制鍍膜，滿足您的應用需求。

【光學鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有將兩者結合的金屬電介質反射膜，功能是增加光學表面的反射率。一般金屬都具有較大的消光系數。當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數較大，光學性質較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬;缺點是光損大，反射率不可能很高。真空鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?

【光學鍍膜在jun事上的運用】在jun事上，寬帶增透膜和寬帶高反射膜廣fan用于jun用光學儀器。用具有一定工作波長的濾光片和其它部件組成的紅外探測器和紅外器件，可探測發(fā)出大量熱能的導彈和飛機等jun事目標的行蹤。這些器件也用于紅外制導導彈，熱成像儀光學器件上鍍制的硬碳膜和金剛石膜，耐風沙和雨水。坦克用激光測距儀的鏡頭，需鍍增透膜和防霜導電金屬膜。透明的導電薄膜用于戰(zhàn)斗機上防雷達。 光學鍍膜可應用于jun用光學系統(tǒng)，鍍膜技術可通過特殊的鍍膜保護傳感器在風沙雨雪等惡劣的環(huán)境下不受外界影響或沒有明顯的損耗。具有優(yōu)良的多光譜和低能見度探測、在700℃工作溫度下耐氧化、速度大于4馬赫時仍能工作、抗電磁干擾屏蔽特性。它廣fan應用于紅外尋的器、紅外監(jiān)視、紅外警戒系統(tǒng)的窗口或整流罩。光學鍍膜機可以制造出具有高精度的薄膜，可以用于制造高精度的光學器件。湖北愛發(fā)科光學鍍膜機

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【光學薄膜的特點】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內是連續(xù)的；可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴散界面；由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復雜的時間效應。不同物質對光有不同的反射、吸收、透射性能，光學薄膜就是利用材料對光的這種性能，并根據實際需要制造的。北京國產光學鍍膜機南光