【離子鍍的歷史】： 真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來取得了巨大的進(jìn)步，我國也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程。 【離子鍍的原理】： 蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于 真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表 面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點(diǎn)】： 優(yōu)點(diǎn)：膜層附著力好，膜層致密，具有繞度性能，能在形狀復(fù)雜的零件表面鍍膜。 缺點(diǎn)：離子鍍的應(yīng)用范圍不廣；膜與基體間存在較寬的過渡界面。會(huì)有氣體分子吸附。 真空鍍膜設(shè)備機(jī)組介紹。海南馳誠真空鍍膜設(shè)備

【濺射的四要素】：①靶材物質(zhì)，②電磁場(chǎng)，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備【濺射收益】：1)離子每一次撞擊靶材時(shí)，靶材所釋放出的靶材原子；2)影響濺射收益的因素：①等離子體中離子動(dòng)能,②入射離子的入射角度;3)Zui大濺射收益的決定因素：①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì);4)入射角度的影響因素①由電場(chǎng)決定,②靶材表面于入射源的相對(duì)角度。【濺射率】：定義：每單位時(shí)間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個(gè)數(shù)。濺射率的影響因素：①離子動(dòng)能（取決于電源電壓和氣體壓力）②等離子密度（取決于氣體壓力和電流）。統(tǒng)計(jì)學(xué)公式：Rs(統(tǒng)計(jì)學(xué))=d/t。注：濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間，因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜，久之會(huì)產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進(jìn)行定期清潔。天津真空鍍膜設(shè)備有用嗎真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些？

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括：灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對(duì)策：檢討過程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境，防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時(shí)污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和主機(jī)隔開，減少主機(jī)產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。

【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應(yīng)濺射：氧化物，氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象：①：靶材分子分裂，其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng)，形成化合物 ②：膜層性能改變 ③：靶材有可能中毒 2、二極濺射：二極濺射是一種經(jīng)典的標(biāo)準(zhǔn)濺射技術(shù)，其中等離子體和電子均只沿著電場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)。 特征：①：無磁場(chǎng) ②：濺射率低 ③：放電電壓高（＞500V） ④：鍍膜底物受熱溫度極易升高（＞500°C） 用途：主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射：暗區(qū)無等離子體產(chǎn)生，在磁控濺射下，電子呈螺旋形運(yùn)動(dòng)，不會(huì)直接沖向陽極。而是在電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的綜合作用在腔室內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)。同時(shí)獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進(jìn)行能量交換，使氣體及靶材原子離子化，dada提高氣體等離子體密度，從而提高了濺射速率（可提高10—20倍）和濺射均勻性。真空鍍膜設(shè)備故障解決方法？

【真空鍍膜設(shè)備適用范圍】1、建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）、門鎖、門拉手、衛(wèi)浴、門鎖、五金合葉、家具等。2、制表業(yè)：可用于表殼、表帶的鍍膜、水晶制品。3、其它小五金：皮革五金、不銹鋼餐具、眼鏡框、刀具、模具等。4、大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板、招牌、雕塑等。5、不銹鋼管和板（各種類型表面）6、家具、燈具、賓館用具7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。8、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。真空鍍膜設(shè)備大概多少錢一臺(tái)？貴州南通高真空鍍膜設(shè)備

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【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)狻⒁胰驳确磻?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品。【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機(jī)械制品。海南馳誠真空鍍膜設(shè)備