【真空鍍膜反應磁控濺射法】： 制備化合物薄膜可以用各種化學氣相沉積或物理qi相沉積方法。但目前從工業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)的要求來看，物理qi相沉積中的反應磁控濺射沉積技術具有明顯的優(yōu)勢，因而被guang泛應用，這是因為： 1、反應磁控濺射所用的靶材料(單元素靶或多元素靶)和反應氣體(氧、氮、碳氫化合物等)通常很容易獲得很高的純度，因而有利于制備高純度的化合物薄膜。 2、反應磁控濺射中調(diào)節(jié)沉積工藝參數(shù)，可以制備化學配比或非化學配比的化合物薄膜，從而達到通過調(diào)節(jié)薄膜的組成來調(diào)控薄膜特性的目的。 3、反應磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會有很大的升高，而且成膜過程通常也并不要求對基板進行很高溫度的加熱，因此對基板材料的限制較少。 4、反應磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實現(xiàn)單機年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)。但是反應磁控濺射在20世紀90年代之前，通常使用直流濺射電源，因此帶來 了一些問題，主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩(wěn)定，沉積速率較低，膜的缺陷密度較高，這些都限制了它的應用發(fā)展。錦成國泰真空鍍膜設備怎么樣？新疆真空鍍膜設備應用領域

真空鍍膜機，顧名思義就是將工件放入真空室中，利用高氣壓使工件與氣體隔絕形成真空狀態(tài)后進行鍍膜的一種工藝。由于這種工藝需要采用特殊的設備才能實現(xiàn)，所以一般用于精密加工行業(yè)和電子行業(yè)等對產(chǎn)品精度要求較高的場合。真空鍍膜冷水機是專門為真空鍍膜而設計的制冷設備。它具有結構緊湊、體積小、效率高、噪音低等特點；同時還可以提供多種冷凍水溫度供用戶選擇使用（如常溫型、高溫型）。下面我們就來了解一下它的工作原理：1、在機組內(nèi)裝有蒸發(fā)器及冷凝器各一臺；2、當機組啟動時壓縮空氣經(jīng)壓縮機吸入到蒸發(fā)器內(nèi)與水換熱產(chǎn)生冷媒蒸汽并汽化吸出熱量的同時被冷凝成液體；3、冷卻后的冷媒蒸汽進入冷凝器的下端回氣管內(nèi)再次吸收熱量變成液態(tài)冷媒返回壓縮機循環(huán)工作。4、經(jīng)過上述過程之后重新回到蒸發(fā)器的上端繼續(xù)完成一個循環(huán)過程，如此往復循環(huán)運行達到連續(xù)制冷的目的。5、為了保證系統(tǒng)能正常的工作以及延長使用壽命我們建議客戶在使用前先對機器內(nèi)部進行清洗除垢以保證其良好的散熱效果和使用壽命！湖南真空鍍膜設備廠真空鍍膜設備的應用。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕（膜傷）】： 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子，膜內(nèi)的稱劃痕，膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥，雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法，但難以。 產(chǎn)生原因： 膜內(nèi)劃痕： 1. 前工程外觀不良殘留。 2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密，搬運過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷)： 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策： 1. 強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單，監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運方法 5. 改善擺放器具、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強前工程檢驗和鍍前檢查

【真空鍍膜機概述】： 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構造的五大系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值；因此，只有當三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn)；降低故障時間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機器利用率等。真空鍍膜設備抽真空步驟。

【離子鍍膜法之活性反應蒸鍍法】：活性反應蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品?！倦x子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機械制品。真空鍍膜設備培訓資料。山東磁控濺射真空鍍膜設備廠家

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【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復真空、極限真空、保真空： 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵（應清洗） 2. 擴散泵很久未換油（應清洗換油） 3. 前級泵反壓強大太機械泵真空度太低（應清洗換油） 4. 各動密封膠圈損壞（更換膠圈） 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈） 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈） 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象（重新壓緊） 8. 高低預閥是否密封可靠（注油）新疆真空鍍膜設備應用領域