【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來(lái)越廣fan。適用材料：所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。常見(jiàn)的為注塑件和金屬件。工藝成本:無(wú)模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過(guò)10分鐘。環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。真空鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。重慶AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱(chēng)為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類(lèi)壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。山西塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源源頭實(shí)力廠(chǎng)家真空鍍膜機(jī)的主要用途？

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設(shè)計(jì)，后校核。由粗到細(xì)。鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo)：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時(shí)間、恢復(fù)真空時(shí)間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;高電壓。

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類(lèi)型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^da的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣。真空鍍膜機(jī)品牌排行。

【真空鍍膜機(jī)之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進(jìn)美觀(guān)等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。適用材料：多數(shù)金屬可以進(jìn)行電鍍但是不同的金屬具有不同等級(jí)的純度和電鍍效率。其中常見(jiàn)的有：錫，鉻，鎳，銀，金和銠；2.常用于電鍍的塑料為ABS。3.鎳金屬不可用于電鍍接觸皮膚的產(chǎn)品，因?yàn)殒噷?duì)皮膚有刺激性且有毒性。工藝成本：無(wú)模具費(fèi)用，但需要夾具對(duì)零件進(jìn)行固定/時(shí)間成本取決于溫度和金屬種類(lèi)/人力成本（中-高），取決于具體電鍍件的種類(lèi)，例如銀器和珠寶的電鍍就需要極高的熟練工人進(jìn)行操作，因?yàn)槠鋵?duì)外觀(guān)和耐久性的要求很高環(huán)境影響:da量有毒物質(zhì)會(huì)被用在電鍍過(guò)程中，所以需要專(zhuān)業(yè)的分流和提取，以確保小的環(huán)境影響。真空鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。河南AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源制造生產(chǎn)廠(chǎng)家

真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？重慶AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分。重慶AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選