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【射頻離子源工作原理】:氣體通過(guò)一個(gè)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的氣體絕緣器進(jìn)入石英放電室,13.56mhz的射頻功率通過(guò)電感耦合進(jìn)入放電室離化氣體。在產(chǎn)生plasma后、用柵網(wǎng)構(gòu)成的加速系統(tǒng)將離子引出。初,離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來(lái)加負(fù)電壓的加速柵網(wǎng)將離子束引出。被引出的離子形成離子束,向靶標(biāo)輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負(fù)電壓大小所決定。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí),在國(guó)內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。關(guān)于真空鍍膜機(jī),你知道多少?寧夏離子束濺射射頻離子源多少錢(qián)
【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對(duì)半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級(jí)表面處理。系統(tǒng)原理通過(guò)電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動(dòng)化控制器:e-ControlPLC,是控制系統(tǒng)的硬件平臺(tái)。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級(jí)15寸觸摸式平板電腦,穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開(kāi)發(fā)平臺(tái),提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。安徽光學(xué)鍍膜射頻離子源廠家成都國(guó)泰真空鍍膜機(jī)怎么樣?
【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,(注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當(dāng)粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個(gè)月(雨季減半),需更換新油。方法:擰開(kāi)放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動(dòng)數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上,換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開(kāi),用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開(kāi)機(jī)前,要注意檢漏。方法:?jiǎn)?dòng)維持泵,關(guān)好da門(mén),數(shù)分鐘后,觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到6X10帕,否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈,或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱,否則擴(kuò)散泵油會(huì)燒環(huán),真空鍍膜設(shè)備無(wú)法進(jìn)入工作狀態(tài)。
本申請(qǐng)還涉及一種射頻離子源離子束束徑控制方法,也即采用上述束徑控制裝置進(jìn)行離子束束徑控制的方法,包括以下步驟:s1,對(duì)真空腔體5進(jìn)行抽真空;s2,打開(kāi)離子束發(fā)生器7,調(diào)整電壓電流參數(shù);s3,在控制器6的輸入界面中輸入離子束束徑值;s4,點(diǎn)擊控制器6的執(zhí)行按鈕,控制器6向驅(qū)動(dòng)器8發(fā)出指令,驅(qū)動(dòng)器8控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作;s5,驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)滑環(huán)41轉(zhuǎn)動(dòng)并帶動(dòng)導(dǎo)柱24在導(dǎo)槽42中滑動(dòng),葉片2繞固定軸23轉(zhuǎn)動(dòng)使光闌3大小與輸入的離子束束徑值一致。下面給出一種采用該方法進(jìn)行拋光的具體步驟:1、打開(kāi)離子束拋光系統(tǒng)電源、水冷裝置、工作氬氣等;2、放置光學(xué)元件,采用合適夾具將光學(xué)元件固定;3、對(duì)真空腔體進(jìn)行抽真空,保證實(shí)驗(yàn)的真空狀態(tài),且真空腔體壓強(qiáng)需達(dá)到×10-3pa以上;4、打開(kāi)離子源也即離子束發(fā)生器,調(diào)整好離子源的電壓電流等參數(shù);5、根據(jù)被拋光元件尺寸及檢測(cè)后的面形參數(shù)情況選擇離子束束徑,將離子束束徑參數(shù)輸入控制器的計(jì)算機(jī)控制界面;6、點(diǎn)擊控制器的執(zhí)行按鈕,控制器向驅(qū)動(dòng)器發(fā)出指令,驅(qū)動(dòng)器控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)動(dòng)作;7,伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)滑環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)并帶動(dòng)導(dǎo)柱在導(dǎo)槽中滑動(dòng),葉片繞固定軸轉(zhuǎn)動(dòng)使光闌大小與輸入的離子束束徑值一致;8、控制離子束垂直入射法拉第杯。真空鍍膜機(jī)使用時(shí),需要注意哪些問(wèn)題?
【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面,不能在da氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求??諝鉂穸萪a的地區(qū),除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外,還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴(kuò)散泵返油,對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。河南光學(xué)鍍膜射頻離子源怎么選
真空鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。寧夏離子束濺射射頻離子源多少錢(qián)
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔?。寧夏離子束濺射射頻離子源多少錢(qián)