【減反射膜的透過(guò)量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過(guò)反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹(shù)脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（1.50＋1）平方＝0.04＝4%。 鏡片有兩個(gè)表面，如果R1為鏡片前表面的量，R2為鏡片后表面的反射量，則鏡片的總反射量R＝R1＋R2。（計(jì)算R2的反射量時(shí)，入射光為100%－R1）。鏡片的透光量T＝100%-R1-R2。 由此可見(jiàn)，高折射率的鏡片如果沒(méi)有減反射膜，反射光會(huì)對(duì)戴鏡者帶來(lái)的不適感比較強(qiáng)烈。 光學(xué)鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障及解決方法。安徽光學(xué)鍍膜機(jī)顏色不均勻

【光學(xué)薄膜新進(jìn)展之太陽(yáng)能選擇性吸收膜和高功率激光膜】 太陽(yáng)能選擇性吸收膜：根據(jù)黑體輻射通用曲線可以求得太陽(yáng)約有98%的輻射能分布在0.17～2.5Lm的光譜范圍，其中有90%的輻射能位于0.4～2.0Lm的可見(jiàn)光、近紅外范圍。隨著人們對(duì)太陽(yáng)能的充分利用，用于太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換的太陽(yáng)能選擇性吸收膜具有很大的研究?jī)r(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景，引起科研人員的極大興趣。 高功率激光膜：準(zhǔn)分子激光正在廣fan應(yīng)用于分析化學(xué)、光譜學(xué)、半導(dǎo)體工藝、激光泵浦、激光聚變、光化學(xué)、醫(yī)學(xué)和空間技術(shù)等領(lǐng)域。紫外反射鏡是準(zhǔn)分子激光器的重要光學(xué)元件，但所選用的膜料比可見(jiàn)光區(qū)和近紅外區(qū)膜料非常有限，制備工藝特別復(fù)雜。而金屬反射鏡已經(jīng)不能滿足技術(shù)的要求，所以必須研制低損耗的全介質(zhì)反射鏡。 安徽光學(xué)鍍膜機(jī)顏色不均勻光學(xué)鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。

【光學(xué)鍍膜之CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來(lái)，以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立刻反應(yīng)，實(shí)際上并非如此。 (2)前置反應(yīng)物吸附在基板上，此時(shí)仍容許該前置物在基板上進(jìn)行有限程度的表面橫向移動(dòng)。 (3)前置物在基板上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生沉積物的化學(xué)分子，然后經(jīng)積聚成核、遷移、成長(zhǎng)等步驟，*后聯(lián)合一連續(xù)的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體，以擴(kuò)散機(jī)制傳輸?shù)街髁鳉庀?，并?jīng)傳送排出。

【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】 化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。 優(yōu)點(diǎn): (1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆 (2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min (3)與PVD比較的話?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成 (4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等 (5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷 (6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片 缺點(diǎn): (1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解 (2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用 (3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時(shí)需小心 (4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì) (5)基材的遮蔽很難 光學(xué)鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過(guò)程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個(gè)濺射室的雙端機(jī)。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)主要有：①對(duì)靶材的面積和形狀不作要求，且可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實(shí)現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強(qiáng)，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產(chǎn)效率高。 光學(xué)鍍膜機(jī)抽真空步驟。吉林華源光學(xué)鍍膜機(jī)

光學(xué)鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。安徽光學(xué)鍍膜機(jī)顏色不均勻

【光學(xué)鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學(xué)表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁，在可見(jiàn)光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。 金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬;缺點(diǎn)是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(zhǎng)(或者某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。 安徽光學(xué)鍍膜機(jī)顏色不均勻

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)園科林西路618號(hào)。公司業(yè)務(wù)涵蓋光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備等，價(jià)格合理，品質(zhì)有保證。公司從事機(jī)械及行業(yè)設(shè)備多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。國(guó)泰真空秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。