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山東光學(xué)鍍膜機(jī)的功能

來源: 發(fā)布時間:2021-10-27

【光學(xué)鍍膜之CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來,以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下,前置物在基板上的濃度是零,亦即在基板上立刻反應(yīng),實(shí)際上并非如此。 (2)前置反應(yīng)物吸附在基板上,此時仍容許該前置物在基板上進(jìn)行有限程度的表面橫向移動。 (3)前置物在基板上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生沉積物的化學(xué)分子,然后經(jīng)積聚成核、遷移、成長等步驟,*后聯(lián)合一連續(xù)的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體,以擴(kuò)散機(jī)制傳輸?shù)街髁鳉庀?,并?jīng)傳送排出。 磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)是什么?山東光學(xué)鍍膜機(jī)的功能

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應(yīng),在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。 在線CVD法鍍膜技術(shù),是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù),是目前世界上比較先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進(jìn)人退火窯,且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國*早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù),能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括:原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 湖北光學(xué)鍍膜機(jī)做什么產(chǎn)品光學(xué)鍍膜機(jī)的升級改造。

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進(jìn)行,故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測、離位量測兩類:原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測,普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測,對電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。

【光學(xué)濾光之按光譜波段區(qū)分片】光學(xué)濾光片,簡單來說就是用來選擇性過濾所需要輻射波段的光學(xué)器件?;酁榘撞AА⑹?、有色玻璃或塑料樹脂等光學(xué)材料。光學(xué)濾光片的分類方式可以按光譜分布、光譜類型、帶寬、波長、膜層特性、行業(yè)應(yīng)用特點(diǎn)等方式分類。 按光譜波段區(qū)分濾光片:通過光譜的分布長短(即光譜所處區(qū)域)把濾光片分為:紫外濾光片,可見光濾光片,近紅外濾光片,紅外濾光片,遠(yuǎn)紅外濾光片。 光譜波長范圍如下: 紫外濾光片180~400nm 可見光濾光片400~700nm 近紅外濾光片700~3000nm 紅外濾光片3000nm~10um以上 光學(xué)鍍膜機(jī)故障解決方法?

【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng) (一)定期更換擴(kuò)散泵油 擴(kuò)散泵油使用一段時間,約二個月(兩班),因在長期高溫環(huán)境,雖然較高真空時才啟動擴(kuò)散泵,但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng),擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解,使其品質(zhì)下降,而延長抽氣時間。在我們認(rèn)為時間延長得太多時,應(yīng)予更換。 (二)真空泵 機(jī)械泵油、維持泵油在使用二個月,油質(zhì)會發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因,而使用油粘性變差,真空下降,故需要更換。如為新設(shè)備,在使用頭半個月即應(yīng)更換,因在磨合期,油含磨合鐵粉較多,會加劇磨損。 (三)清潔衛(wèi)生 定期將設(shè)備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好,常保持設(shè)備內(nèi)外清潔,將設(shè)備周圍環(huán)境整理有條,有一個好的工作環(huán)境,以保安全。 光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理。山東光學(xué)鍍膜機(jī)的功能

光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多,你如何選擇?山東光學(xué)鍍膜機(jī)的功能

【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純元素之蒸鍍而言,電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜,電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純元素之蒸鍍通常采取高真空度與高蒸鍍速率的鍍膜條件?;衔锊牧先缪趸?、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過程中會因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點(diǎn),通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時會有負(fù)電荷累積問題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。 山東光學(xué)鍍膜機(jī)的功能

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