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浙江新型光學(xué)鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2021-09-13

【光學(xué)鍍膜機的維護與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動電源、蒸發(fā)源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓,在工作前必須保證柜門各個聯(lián)鎖裝置正常工作,非專業(yè)人員不得打開電柜門,電子qiang在工作時不得打開電柜門,整個電柜必須有良好的接地并與機臺接地連接。 電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上,必須與底板有良好的接地效果,安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來固定,周邊200mm以內(nèi)不得有導(dǎo)磁的物體,否則會影響到電子qiang的光斑成表,造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝在蒸發(fā)源坩堝的中心上30mm處,以不影響電子束的發(fā)射為好。 電子qiang蒸發(fā)源是一個精密機械加工體,在工作時必須保證有良好的冷卻水,如過高的溫度會影響電子束的成型及各密封圈的性能。 光學(xué)鍍膜機品牌有很多,你如何選擇?浙江新型光學(xué)鍍膜機

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】 1)鍍膜前準(zhǔn)備:鏡片在接受鍍膜前必須進行分子級的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強清洗效果,當(dāng)鏡片清洗完后,放進真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的,放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面(例如用氬離子),完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。 2)真空鍍膜:真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面,同時在蒸發(fā)過程中,對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制,精度達到。 3)膜層牢固性:對眼鏡片而言,膜層的牢固性是至關(guān)重要的,是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對性的物理化學(xué)測試方法,在模擬戴鏡者的使用條件下,對鍍膜鏡片進行膜層牢度質(zhì)量的測試。這些測試方法包括:鹽水試驗、蒸汽試驗、去離子水試驗、鋼絲絨磨擦試驗、溶解試驗、黏著試驗、溫差試驗和潮濕度試驗等等。 浙江新型光學(xué)鍍膜機光學(xué)鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進行,故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測、離位量測兩類:原位星測系指鍍膜進行中量測,普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測,對電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。

【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。 ①反應(yīng)濺射法:即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上,適用濺射化合物膜。 ②高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負電,在達到動態(tài)平衡時,靶處于負的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進行,適用濺射絕緣膜。 光學(xué)鍍膜機廠家qian十。

【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分,小于2%來定為窄帶,大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片,寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片,IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片,LWP-700。 光學(xué)鍍膜機公司的排名。四川光學(xué)鍍膜機觀察窗玻璃

光學(xué)鍍膜機機組是怎樣的?浙江新型光學(xué)鍍膜機

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法,其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中,水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式,以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點主要有:①對靶材的面積和形狀不作要求,且可實現(xiàn)大面積鍍膜,且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好;②可用的膜材廣fan,只要能做成靶材的任何材料都可實現(xiàn)濺射,因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包括合金和化合物等;③薄膜與基片的附著力強,膜層純度高、致密;④成膜速度快,生產(chǎn)效率高。 浙江新型光學(xué)鍍膜機

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