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天津gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-09-13

【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時(shí),由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線,即產(chǎn)生打火。另外,若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物,會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置,在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓,然后又自動(dòng)恢復(fù),切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短,愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。 高壓引線應(yīng)盡量短,并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住,不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光,然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔,以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。 電子qiang體應(yīng)可靠接地。 對(duì)放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適,不可過高造成材料飛濺。 高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查,以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm. 光學(xué)鍍膜機(jī)故障解決方法?天津gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

【常見的光學(xué)鍍膜材料】常見的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種: 1、氟化鎂材料特點(diǎn):無se四方晶系粉末,純度高,用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn):無se透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn) 江蘇振華光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些?

【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?;糜谡龑?duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。 ①反應(yīng)濺射法:即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上,適用濺射化合物膜。 ②高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負(fù)電,在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),靶處于負(fù)的偏置電位,從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行,適用濺射絕緣膜。

【光學(xué)鍍膜之什么是蒸發(fā)鍍】通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。 薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1~0.2電子伏。 光學(xué)鍍膜機(jī)是什么樣的?

【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng) (一)定期更換擴(kuò)散泵油 擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間,約二個(gè)月(兩班),因在長(zhǎng)期高溫環(huán)境,雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵,但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng),擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解,使其品質(zhì)下降,而延長(zhǎng)抽氣時(shí)間。在我們認(rèn)為時(shí)間延長(zhǎng)得太多時(shí),應(yīng)予更換。 (二)真空泵 機(jī)械泵油、維持泵油在使用二個(gè)月,油質(zhì)會(huì)發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因,而使用油粘性變差,真空下降,故需要更換。如為新設(shè)備,在使用頭半個(gè)月即應(yīng)更換,因在磨合期,油含磨合鐵粉較多,會(huì)加劇磨損。 (三)清潔衛(wèi)生 定期將設(shè)備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好,常保持設(shè)備內(nèi)外清潔,將設(shè)備周圍環(huán)境整理有條,有一個(gè)好的工作環(huán)境,以保安全。 廣東光學(xué)鍍膜機(jī)廠家。安徽高精密光學(xué)鍍膜機(jī)

光學(xué)鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。天津gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)濾光之按光譜波段區(qū)分片】光學(xué)濾光片,簡(jiǎn)單來說就是用來選擇性過濾所需要輻射波段的光學(xué)器件?;酁榘撞AА⑹?、有色玻璃或塑料樹脂等光學(xué)材料。光學(xué)濾光片的分類方式可以按光譜分布、光譜類型、帶寬、波長(zhǎng)、膜層特性、行業(yè)應(yīng)用特點(diǎn)等方式分類。 按光譜波段區(qū)分濾光片:通過光譜的分布長(zhǎng)短(即光譜所處區(qū)域)把濾光片分為:紫外濾光片,可見光濾光片,近紅外濾光片,紅外濾光片,遠(yuǎn)紅外濾光片。 光譜波長(zhǎng)范圍如下: 紫外濾光片180~400nm 可見光濾光片400~700nm 近紅外濾光片700~3000nm 紅外濾光片3000nm~10um以上 天津gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

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