【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】 化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。 優(yōu)點(diǎn): (1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆 (2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min (3)與PVD比較的話?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成 (4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等 (5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷 (6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片 缺點(diǎn): (1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解 (2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用 (3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時(shí)需小心 (4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì) (5)基材的遮蔽很難 光學(xué)鍍膜機(jī)的操作視頻。山東光學(xué)鍍膜機(jī)好不好

【光學(xué)鍍膜機(jī)是什么】光學(xué)鍍膜設(shè)備可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源、電子qiang和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對(duì)金屬、氧化物、化合物及其他高熔點(diǎn)膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。應(yīng)用于手機(jī)鏡頭、光學(xué)鏡頭、手機(jī)PET膜、手機(jī)玻璃后蓋板等。新疆光學(xué)鍍膜機(jī)計(jì)量單位紅外光學(xué)鍍膜機(jī)制造商。

【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?；糜谡龑?duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。 ①反應(yīng)濺射法：即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上，適用濺射化合物膜。 ②高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行，適用濺射絕緣膜。

【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】 物理qi相沉積法，簡(jiǎn)單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結(jié)到溫度相對(duì)低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā)：光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便。 2) 濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過動(dòng)量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動(dòng)能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強(qiáng)，純度高，可同時(shí)濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強(qiáng)、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器—離子源，產(chǎn)生離子束，在熱蒸發(fā)進(jìn)行的同時(shí)，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結(jié)構(gòu)(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達(dá)到改善膜層光學(xué)和機(jī)械性能。 光學(xué)鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測(cè)量得出只有85%了,那就可以把這個(gè)濾光片的光學(xué)透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡(jiǎn)單說就是*高透過率的1/2處所對(duì)應(yīng)的波長,左右波長值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對(duì)應(yīng)的左右波長是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對(duì)應(yīng)的透過率.由于要想透過率達(dá)到零,那是非常難的事情,只能選擇它透過率接近于零，但通常透過率達(dá)到10的負(fù)5次方以上就可以滿足大部分使用要求，通常轉(zhuǎn)換為光學(xué)密度值，用OD>5表示。 截止波段: 可接受的不需要的波長*小區(qū)間范圍，由于多數(shù)電子成像用的感光器件的響應(yīng)范圍是350-950nm,在實(shí)際中確定范圍稍稍比這個(gè)區(qū)間寬一點(diǎn)即可。紫外及紅外的截止范圍確定比這個(gè)要繁雜一些，需要根據(jù)使用的探頭響應(yīng)范圍來確定。 光學(xué)鍍膜機(jī)是什么樣的？山東中一光學(xué)鍍膜機(jī)

光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多，你如何選擇？山東光學(xué)鍍膜機(jī)好不好

【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?，F(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們?cè)趪窠?jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣 fan的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。 山東光學(xué)鍍膜機(jī)好不好

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