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陜西真空鍍膜設(shè)備哪種好

來源: 發(fā)布時間:2021-11-05

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之機(jī)器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之機(jī)器故障和人為中斷: 模擬:根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機(jī)膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標(biāo)的Zui佳方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片或測試片,確認(rèn)補(bǔ)色膜系的可行性。 補(bǔ)色鍍:對試鍍情況確認(rèn)后實施補(bǔ)色鍍。補(bǔ)色鍍前,確認(rèn)基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其他不良。 廣東真空鍍膜設(shè)備廠家。陜西真空鍍膜設(shè)備哪種好

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕(膜傷)】: 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法,但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)劃痕: 1. 前工程外觀不良?xì)埩簟?2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密,搬運(yùn)過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷): 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策: 1. 強(qiáng)化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運(yùn)方法 5. 改善擺放器具、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強(qiáng)前工程檢驗和鍍前檢查 湖北騰工米尼真空鍍膜設(shè)備有限公司光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。

【真空鍍膜真空濺射法】: 真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng);鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡單,操作方便,容易控制。 主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。

【真空鍍膜反應(yīng)磁控濺射法】: 制備化合物薄膜可以用各種化學(xué)氣相沉積或物理qi相沉積方法。但目前從工業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)的要求來看,物理qi相沉積中的反應(yīng)磁控濺射沉積技術(shù)具有明顯的優(yōu)勢,因而被guang泛應(yīng)用,這是因為: 1、反應(yīng)磁控濺射所用的靶材料(單元素靶或多元素靶)和反應(yīng)氣體(氧、氮、碳?xì)浠衔锏?通常很容易獲得很高的純度,因而有利于制備高純度的化合物薄膜。 2、反應(yīng)磁控濺射中調(diào)節(jié)沉積工藝參數(shù),可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜,從而達(dá)到通過調(diào)節(jié)薄膜的組成來調(diào)控薄膜特性的目的。 3、反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會有很大的升高,而且成膜過程通常也并不要求對基板進(jìn)行很高溫度的加熱,因此對基板材料的限制較少。 4、反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜,并能實現(xiàn)單機(jī)年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)。但是反應(yīng)磁控濺射在20世紀(jì)90年代之前,通常使用直流濺射電源,因此帶來 了一些問題,主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩(wěn)定,沉積速率較低,膜的缺陷密度較高,這些都限制了它的應(yīng)用發(fā)展。 真空鍍膜設(shè)備為什么會越來越慢?

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜內(nèi)色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜內(nèi)色斑改善對策: 1. 加快研磨(拋光)到鍍膜的周期,減少鏡片被污染服飾的幾率,注意:是鏡片的全部拋光面。 2. 拋光加工中,注意對另一已拋好光的面保護(hù) 3. 注意拋光加工中的工裝、夾具、加工方法,以免造成對鏡片表面局部腐蝕傷害 4. 拋光加工完成的光面,必須立即清潔干凈,不能有拋光粉或其他雜志附著干結(jié)。 5. 控制研磨拋光液的PH值 6. 鍍膜前,用拋光粉或碳酸鈣粉對鏡片拋光面復(fù)新。 7. 加強(qiáng)鍍前的離子轟擊 8. 對于可見光區(qū)減反膜,在滿足技術(shù)要求的前提下設(shè)計制作成單峰形,反射色呈淡綠色,掩蓋色斑。 9. 對于化學(xué)性能較好的鏡片,在清洗前先用退膜液或稀酸液侵泡去除腐蝕斑 10. 選擇合適的膜層匹配對色斑改善也有幫助 11. 提高基片鍍制時的溫度,加快水汽的徹底揮發(fā)。 12. 第yi層鍍上Al2O3膜層一般會有好的改善效果。 成都真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?貴州ito真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜設(shè)備的工作原理。陜西真空鍍膜設(shè)備哪種好

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之灰點臟】: 現(xiàn)象:鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子(不是膜料點),有些可擦除,有些不能擦除。并且會有點狀脫膜產(chǎn)生。 原因: 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時就有灰塵點,上傘時沒有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點的主要成因,特別是當(dāng)鏡片熱的時候,更容易吸附灰塵,而且難以擦除。 改善思路:杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間,嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺。 3. 真空室周期打掃,保持清潔。 陜西真空鍍膜設(shè)備哪種好

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