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天津磁控濺射真空鍍膜設(shè)備廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-16

【近些年來(lái)出現(xiàn)的新的鍍膜方法】: 除蒸發(fā)法和濺射法外,人們又綜合了這兩種方法的優(yōu)缺點(diǎn),取長(zhǎng)補(bǔ)短,發(fā)展出一些新的方法,如:等離子體束濺射等。這種嶄新的技術(shù)結(jié)合了蒸發(fā)鍍的高效和濺射鍍的高性能特點(diǎn),特別在多元合金以及磁性薄膜的制備方面,具有其它手段無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn)。高效率等離子體濺射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))實(shí)際上是由利用射頻功率產(chǎn)生的等離子體聚束線圈、偏壓電源組成的一個(gè)濺射鍍膜系統(tǒng)。這種離子體源裝置在真空室的側(cè)面。如圖1所示。圖2為實(shí)際的鍍膜機(jī)照片。該等離子體束在電磁場(chǎng)的作用下被引導(dǎo)到靶上,在靶的表面形成高密度等離子體。同時(shí)靶連接有DC/RF偏壓電源,從而實(shí)現(xiàn)高效可控的等離子體濺射。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計(jì)是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵,而這種廣闊的可控性使得特定的應(yīng)用能確定工藝參數(shù)Zui優(yōu)化。 與通常的磁控濺射相比,由于磁控靶磁場(chǎng)的存在而在靶材表面形成刻蝕環(huán)不同,HiTUS系統(tǒng)由于取消了靶材背面的磁鐵,從而能對(duì)靶的材料實(shí)現(xiàn)全mian積均勻。 電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備是什么?天津磁控濺射真空鍍膜設(shè)備廠家

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】: 活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)?、乙炔等反?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜;可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】: 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化;依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,離化率高,電子束斑較大,能鍍金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜;可用于鍍裝飾鍍層、機(jī)械制品。 上海真空鍍膜設(shè)備的功能價(jià)格真空鍍膜設(shè)備真空度多少?

【磁控濺射鍍膜的歷史】: 磁控濺射技術(shù)作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應(yīng)用于許多方面,特別是在微電子、光學(xué)薄膜和材料表面處理等領(lǐng)域。1852年Grove首ci描述濺射這種物理現(xiàn)象,20世紀(jì)40年代濺射技術(shù)作為一種沉積鍍膜方法開始得到應(yīng)用和發(fā)展。60年代后隨著半導(dǎo)體工業(yè)的迅速崛起,這種技術(shù)在集成電路生產(chǎn)工藝中,用于沉積集成電路中晶體管的金屬電極層,才真正得以普及和guang泛的應(yīng)用。磁控濺射技術(shù)出現(xiàn)和發(fā)展,以及80年代用于制作CD的反射層之后,磁控濺射技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域得到極大地?cái)U(kuò)展,逐步成為制造許多產(chǎn)品的一種常用手段。 【磁控濺射原理】: 電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶原子,靶原子沉積在基片表面形成膜。二次電子受到磁場(chǎng)影響,被束縛在靶面的等離子體區(qū)域,二次電子在磁場(chǎng)作用下繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷和氬原子發(fā)生撞擊,電離出大量氬離子轟擊靶材。 【磁控濺射優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):工藝重復(fù)性好,薄膜純度高,膜厚均勻,附著力好。 缺點(diǎn):設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜,靶材利用率低。

【真空蒸鍍的歷史】:1857年Michael FaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】:在真空狀態(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。 缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。 真空鍍膜設(shè)備的工作原理。

【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】: 1. 加強(qiáng)去油去污處理,如是超聲波清洗,重點(diǎn)考慮去油,若是手擦,考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦; 2. 加強(qiáng)鍍前烘烤; 3. 有條件時(shí),機(jī)組安裝冷凝及(POLYCOLD); 4. 提高真空度; 5. 有條件時(shí),機(jī)組安裝離子源; 6. 膜料的去潮; 7. 保持工作環(huán)境的干燥; 8. 對(duì)于多層膜,在膜系設(shè)計(jì)時(shí),就要考慮第yi層膜與基片的匹配; 9. 采取研磨液復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層; 10. 有時(shí)候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對(duì)膜強(qiáng)度的提高有幫助,對(duì)提高膜表面光滑度有積極意義。 真空鍍膜設(shè)備怎么維修。北京真空鍍膜設(shè)備的使用方法

真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。天津磁控濺射真空鍍膜設(shè)備廠家

【真空鍍膜改善薄膜應(yīng)力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤不要馬上停止,延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時(shí)間適當(dāng)延長(zhǎng),退火時(shí)效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過(guò)大帶來(lái)的熱應(yīng)力。 3. 對(duì)高反膜、濾光膜等在蒸鍍過(guò)程中,基片溫度不宜過(guò)高,高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對(duì)氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面影響。 4. 鍍膜過(guò)程離子輔助,減少應(yīng)力。 5. 選擇合適的膜系匹配,第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當(dāng)減小蒸發(fā)速率。 7. 對(duì)氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍,根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量。 天津磁控濺射真空鍍膜設(shè)備廠家

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號(hào),是一家專業(yè)的一般項(xiàng)目:泵及真空設(shè)備制造‘泵及真空設(shè)備銷售;機(jī)械設(shè)備銷售;機(jī)械零件、零部件銷售;光學(xué)儀器銷售;光學(xué)玻璃銷售;功能玻璃和新型光學(xué)材料銷售;電子元器件批發(fā);技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣。公司。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),熟悉行業(yè)專業(yè)知識(shí)技能,致力于發(fā)展錦成國(guó)泰的品牌。公司不僅*提供專業(yè)的一般項(xiàng)目:泵及真空設(shè)備制造‘泵及真空設(shè)備銷售;機(jī)械設(shè)備銷售;機(jī)械零件、零部件銷售;光學(xué)儀器銷售;光學(xué)玻璃銷售;功能玻璃和新型光學(xué)材料銷售;電子元器件批發(fā);技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣。,同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。自公司成立以來(lái),一直秉承“以質(zhì)量求生存,以信譽(yù)求發(fā)展”的經(jīng)營(yíng)理念,始終堅(jiān)持以客戶的需求和滿意為重點(diǎn),為客戶提供良好的光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備,從而使公司不斷發(fā)展壯大。