【光學(xué)鍍膜之蒸發(fā)源的類型和特點(diǎn)】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì) 。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。 ③電子束加熱源：用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000℃）的材料。 特點(diǎn)：能在金屬、半導(dǎo)體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的?？梢圆煌某练e速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯微結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)（單晶、多晶或非晶等）的薄膜； 薄膜的純度很高；易于在線檢測和控制薄膜的厚度與成分；厚度控制精度*高可達(dá)單分子層量級。 光學(xué)鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)？浙江光學(xué)鍍膜機(jī)是怎么樣監(jiān)控厚度的

【光學(xué)鍍膜在jun事上的運(yùn)用】在jun事上，寬帶增透膜和寬帶高反射膜廣fan用于jun用光學(xué)儀器。用具有一定工作波長的濾光片和其它部件組成的紅外探測器和紅外器件，可探測發(fā)出大量熱能的導(dǎo)彈和飛機(jī)等jun事目標(biāo)的行蹤。這些器件也用于紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈，熱成像儀光學(xué)器件上鍍制的硬碳膜和金剛石膜，耐風(fēng)沙和雨水。坦克用激光測距儀的鏡頭，需鍍增透膜和防霜導(dǎo)電金屬膜。透明的導(dǎo)電薄膜用于戰(zhàn)斗機(jī)上防雷達(dá)。 光學(xué)鍍膜可應(yīng)用于jun用光學(xué)系統(tǒng)，鍍膜技術(shù)可通過特殊的鍍膜保護(hù)傳感器在風(fēng)沙雨雪等惡劣的環(huán)境下不受外界影響或沒有明顯的損耗。具有優(yōu)良的多光譜和低能見度探測、在700℃工作溫度下耐氧化、速度大于4馬赫時(shí)仍能工作、抗電磁干擾屏蔽特性。它廣fan應(yīng)用于紅外尋的器、紅外監(jiān)視、紅外警戒系統(tǒng)的窗口或整流罩。 吉林廣豐光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)的操作視頻。

【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】：帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片：選定特定波段的光通過，通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)，中心波長透過率（Tp），截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶，通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分，小于2%來定為窄帶，大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片，寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通)：短于選定波長的光通過，長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片，IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通)：長于選定波長的光通過，短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片，LWP-700。

【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護(hù)】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動(dòng)電源、蒸發(fā)源等組成一個(gè)電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓，在工作前必須保證柜門各個(gè)聯(lián)鎖裝置正常工作，非專業(yè)人員不得打開電柜門，電子qiang在工作時(shí)不得打開電柜門，整個(gè)電柜必須有良好的接地并與機(jī)臺接地連接。 電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上，必須與底板有良好的接地效果，安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來固定，周邊200mm以內(nèi)不得有導(dǎo)磁的物體，否則會影響到電子qiang的光斑成表，造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝在蒸發(fā)源坩堝的中心上30mm處，以不影響電子束的發(fā)射為好。 電子qiang蒸發(fā)源是一個(gè)精密機(jī)械加工體，在工作時(shí)必須保證有良好的冷卻水，如過高的溫度會影響電子束的成型及各密封圈的性能。 PVD光學(xué)鍍膜機(jī)的公司。

【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】 化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。 優(yōu)點(diǎn): (1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆 (2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min (3)與PVD比較的話?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成 (4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等 (5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷 (6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片 缺點(diǎn): (1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解 (2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用 (3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時(shí)需小心 (4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì) (5)基材的遮蔽很難 光學(xué)鍍膜機(jī)的生產(chǎn)廠家。浙江光學(xué)鍍膜機(jī)怎么工作

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【光學(xué)鍍膜之抗污膜】抗污膜（頂膜） 鏡片表面鍍有多層減反射膜后，鏡片特別容易產(chǎn)生污漬，而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下，我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結(jié)構(gòu)，所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，而且這層膜必須非常薄，以使其不會改變減反射膜的光學(xué)性能。 當(dāng)減反射膜層完成后，可使用蒸發(fā)工藝將氟化物鍍于反射膜上?？刮勰た蓪⒍嗫椎臏p反射膜層覆蓋起來，并且能夠?qū)⑺陀团c鏡片的接觸面積減少，使油和水滴不易粘附于鏡片表面，因此也稱為防水膜。 對于有機(jī)鏡片而言，理想的表面系統(tǒng)處理應(yīng)該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復(fù)合膜。通?？鼓p膜鍍層*厚，約為3－5mm，多層減反射膜的厚度約為0.3um，頂層抗污臘鍍*薄，約為0.005－0.01mm。 浙江光學(xué)鍍膜機(jī)是怎么樣監(jiān)控厚度的

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