【真空鍍膜之金屬拉絲】金屬拉絲：是指通過研磨產(chǎn)品在工件表面形成線紋，并且起到裝飾效果的一種表面處理手段。根據(jù)拉絲后紋路的不同可分為：直紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋 適用材料：幾乎所有的金屬材料都可以使用金屬拉絲工藝 工藝成本：工藝方法簡單，設(shè)備需求簡單，材料消耗比較少，成本比較低廉，經(jīng)濟(jì)效益尤其高 環(huán)境影響：純金屬制品，表面無油漆等任何化學(xué)化工物質(zhì)，600度高溫不燃燒，不會(huì)產(chǎn)生有毒氣體，符合消防標(biāo)準(zhǔn)的環(huán)保要求 真空鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。貴州學(xué)生實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。 VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級(jí)噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴(kuò)散泵油，并裝回機(jī)體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機(jī)。在重新開機(jī)前，要注意檢漏工作。首先啟動(dòng)維持泵，關(guān)好da門，數(shù)分鐘后，觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)，否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。 福建真空鍍膜機(jī)什么品牌好真空鍍膜機(jī)是什么樣的？

【真空鍍膜之絲網(wǎng)印刷】絲網(wǎng)印刷：通過刮板的擠壓，使油墨通過圖文部分的網(wǎng)孔轉(zhuǎn)移到承印物上，形成與原稿一樣的圖文。絲網(wǎng)印刷設(shè)備簡單、操作方便，印刷、制版簡易且成本低廉，適應(yīng)性強(qiáng)。 常見的印刷品有：彩色油畫、招貼畫、名片、裝幀封面、商品標(biāo)牌以及印染紡織品等。 適用材料： 幾乎所有的材料都可以絲網(wǎng)印刷，包括紙張，塑料，金屬，陶藝和玻璃等。 工藝成本：模具費(fèi)用低，但是還是取決于顏色的數(shù)量，因?yàn)槊恳环N顏色都要單獨(dú)制版。人力成本偏高，尤其當(dāng)涉及到多彩印刷。 環(huán)境影響：淺色絲印油墨對(duì)環(huán)境影響較小，然而含有PVC和甲醛的油墨具有有害的化學(xué)物質(zhì)，需及時(shí)回收和處理以防污染水資源。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。 射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。 脈沖：泛用，*新發(fā)展出 電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是什么？

【真空鍍膜機(jī)電控柜的操作】 1、玻璃真空鍍膜機(jī)開水泵、氣源 2、開總電源 3、開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 4、開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。 5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子qiang電源。 真空鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)？貴州學(xué)生實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)的主要用途？貴州學(xué)生實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等*高，Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生，在10-1—10 Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。 貴州學(xué)生實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)

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