【離子鍍膜法之活性反應蒸鍍法】： 活性反應蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】： 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機械制品。 真空鍍膜設備參數(shù)怎么調(diào)？天津真空鍍膜設備測試

【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越大，表面越光滑，越直的管道流導也越大。 流量：單位時間內(nèi)流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內(nèi)由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空：真空容器經(jīng)充分抽氣后，穩(wěn)定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。山東真空鍍膜設備有什么用真空鍍膜設備品牌推薦。

【真空鍍膜設備之渦輪分子泵】： 渦輪分子泵：渦輪分子泵是利用高速旋轉的動葉輪將動量傳給氣體分子，使氣體產(chǎn)生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，極限真空10&7~10&8Torr，烘烤后可到10&10Torr，抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉動的渦輪轉子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機械真空泵。泵的轉速為10000轉/分到50000轉/分，這種泵的抽速范圍很寬，但不能直接對大氣排氣，需要配置前級泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關，如對氫的抽速比對空氣的抽速大20%。

【真空蒸鍍的歷史】：1857年Michael FaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油擴散式真空泵實用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時，其他的光學機器對材料的需求提高，真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】：在真空狀態(tài)下，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點】： 優(yōu)點：設備簡單、容易操作；成膜的速率快，效率高。 缺點：薄膜的厚度均勻性不易控制，蒸發(fā)容器有污染的隱患，工藝重復性不好，附著力不高。 真空鍍膜設備哪個牌子的好？

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化：再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù)，通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標的Zui佳方案。 試鍍：根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù)，試鍍?nèi)舾社R片或測試片，確認補色膜系的可行性。 補色鍍：對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前，確認基片是否潔凈，防止產(chǎn)生其他不良。 真空鍍膜設備的工作原理。重慶臥式真空鍍膜設備

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【近些年來出現(xiàn)的新的鍍膜方法】： 除蒸發(fā)法和濺射法外，人們又綜合了這兩種方法的優(yōu)缺點，取長補短，發(fā)展出一些新的方法，如：等離子體束濺射等。這種嶄新的技術結合了蒸發(fā)鍍的高效和濺射鍍的高性能特點，特別在多元合金以及磁性薄膜的制備方面，具有其它手段無可比擬的優(yōu)點。高效率等離子體濺射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))實際上是由利用射頻功率產(chǎn)生的等離子體聚束線圈、偏壓電源組成的一個濺射鍍膜系統(tǒng)。這種離子體源裝置在真空室的側面。如圖1所示。圖2為實際的鍍膜機照片。該等離子體束在電磁場的作用下被引導到靶上，在靶的表面形成高密度等離子體。同時靶連接有DC/RF偏壓電源，從而實現(xiàn)高效可控的等離子體濺射。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設計是實現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關鍵，而這種廣闊的可控性使得特定的應用能確定工藝參數(shù)Zui優(yōu)化。 與通常的磁控濺射相比，由于磁控靶磁場的存在而在靶材表面形成刻蝕環(huán)不同，HiTUS系統(tǒng)由于取消了靶材背面的磁鐵，從而能對靶的材料實現(xiàn)全mian積均勻。 天津真空鍍膜設備測試

成都國泰真空設備有限公司位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家生產(chǎn)型企業(yè)。公司是一家有限責任公司企業(yè)，以誠信務實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍，努力為廣大用戶提供高品質的產(chǎn)品。公司擁有專業(yè)的技術團隊，具有光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備等多項業(yè)務。國泰真空順應時代發(fā)展和市場需求，通過高端技術，力圖保證高規(guī)格高質量的光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備。