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新疆真空鍍膜設(shè)備的膜厚如何測量

來源: 發(fā)布時間:2021-12-21

【光譜分光不良的補救(補色)之機器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷: 模擬:根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標(biāo)的Zui佳方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片或測試片,確認(rèn)補色膜系的可行性。 補色鍍:對試鍍情況確認(rèn)后實施補色鍍。補色鍍前,確認(rèn)基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其他不良。 真空鍍膜設(shè)備怎么保養(yǎng)?新疆真空鍍膜設(shè)備的膜厚如何測量

【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越大,表面越光滑,越直的管道流導(dǎo)也越大。 流量:單位時間內(nèi)流過任意截面的氣體量,單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率:在一定的壓強和溫度下,單位時間內(nèi)由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率,簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱為極限真空。重慶真空鍍膜設(shè)備技術(shù)價格關(guān)于真空鍍膜設(shè)備,你知道多少?

【濺射的四要素】:①靶材物質(zhì),②電磁場,③底物,④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備 【濺射收益】:1)離子每一次撞擊靶材時,靶材所釋放出的靶材原子;2)影響濺射收益的因素: ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素:①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì); 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】: 定義:每單位時間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個數(shù)。 濺射率的影響因素:①離子動能(取決于電源電壓和氣體壓力)②等離子密度(取決于氣體壓力和電流)。統(tǒng)計學(xué)公式:Rs(統(tǒng)計學(xué))=d/t。 注:濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間,因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜,久之會產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進行定期清潔。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策: 1. 對減反膜,設(shè)計條件許可時,外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個人衛(wèi)生改善 9. 檢討真空室返油狀況,防止返油。 10. 適當(dāng)降低基片溫度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜層,根據(jù)硝材特性,選擇合適的膜層材料。 磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是什么?

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞(更換膠圈) 2. 坩堝被打穿(更換坩堝) 3. 高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈) 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開(檢查繼電器是否工作正常) 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿(更換膠圈) 9. 擋板動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂(更換玻璃) 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空: 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵(應(yīng)清洗) 2. 擴散泵很久未換油(應(yīng)清洗換油) 3. 前級泵反壓強大太機械泵真空度太低(應(yīng)清洗換油) 4. 各動密封膠圈損壞(更換膠圈) 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化(更換膠圈) 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞(更換膠圈) 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象(重新壓緊) 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠(注油) 真空鍍膜設(shè)備相關(guān)資料。重慶真空鍍膜設(shè)備技術(shù)價格

真空鍍膜設(shè)備的工作原理。新疆真空鍍膜設(shè)備的膜厚如何測量

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】: 活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜;可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】: 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化;依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,離化率高,電子束斑較大,能鍍金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜;可用于鍍裝飾鍍層、機械制品。 新疆真空鍍膜設(shè)備的膜厚如何測量

成都國泰真空設(shè)備有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,各種專業(yè)設(shè)備齊全。致力于創(chuàng)造高品質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),以誠信、敬業(yè)、進取為宗旨,以建錦成國泰產(chǎn)品為目標(biāo),努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè)。公司不僅僅提供專業(yè)的一般項目:泵及真空設(shè)備制造‘泵及真空設(shè)備銷售;機械設(shè)備銷售;機械零件、零部件銷售;光學(xué)儀器銷售;光學(xué)玻璃銷售;功能玻璃和新型光學(xué)材料銷售;電子元器件批發(fā);技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣。,同時還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。國泰真空始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來高品質(zhì)的光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機,紅外鍍膜設(shè)備。