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湖南真空鍍膜設(shè)備特點(diǎn)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-22

【離子鍍膜法介紹】: 離子鍍膜技術(shù)是在真空條件下,應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的,即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍?cè)诨?。根?jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類(lèi)型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有:輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型,以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有:直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE)、空心陰極離子鍍(HCD)、射頻離子鍍(RFIP)等。 真空鍍膜設(shè)備相關(guān)資料。湖南真空鍍膜設(shè)備特點(diǎn)

【真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞(更換膠圈) 2. 坩堝被打穿(更換坩堝) 3. 高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈) 4. 工轉(zhuǎn)動(dòng)密封處膠圈損壞(更換膠圈) 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 7. 機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開(kāi)(檢查繼電器是否工作正常) 8. 烘烤引入線(xiàn)電極密封處被擊穿(更換膠圈) 9. 擋板動(dòng)密封處膠圈損壞(更換膠圈) 10. 玻璃觀(guān)察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂(更換玻璃) 二、長(zhǎng)期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時(shí)間很長(zhǎng)且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空: 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵(應(yīng)清洗) 2. 擴(kuò)散泵很久未換油(應(yīng)清洗換油) 3. 前級(jí)泵反壓強(qiáng)大太機(jī)械泵真空度太低(應(yīng)清洗換油) 4. 各動(dòng)密封膠圈損壞(更換膠圈) 5. 由于蒸發(fā)室長(zhǎng)期溫度過(guò)高使其各密封膠圈老化(更換膠圈) 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞(更換膠圈) 7. 各引入座螺釘、螺母有無(wú)松動(dòng)現(xiàn)象(重新壓緊) 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠(注油) 云南af真空鍍膜設(shè)備廠(chǎng)家真空鍍膜設(shè)備怎么維修。

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之停電】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類(lèi)不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電: 對(duì)于停電這種情況,比較好處理,只要確認(rèn)前面鍍的沒(méi)錯(cuò),程序沒(méi)有用錯(cuò),就可以繼續(xù)原來(lái)的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時(shí),交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般時(shí)0.2~1nm左右),如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時(shí),要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不讀,通過(guò)后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無(wú)論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù),其特點(diǎn)是:設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。 真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。

【真空鍍膜濺射種類(lèi)】: 1、反應(yīng)濺射:氧化物,氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象:①:靶材分子分裂,其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng),形成化合物 ②:膜層性能改變 ③:靶材有可能中毒 2、二極濺射:二極濺射是一種經(jīng)典的標(biāo)準(zhǔn)濺射技術(shù),其中等離子體和電子均只沿著電場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)。 特征:①:無(wú)磁場(chǎng) ②:濺射率低 ③:放電電壓高(>500V) ④:鍍膜底物受熱溫度極易升高(>500°C) 用途:主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射:暗區(qū)無(wú)等離子體產(chǎn)生,在磁控濺射下,電子呈螺旋形運(yùn)動(dòng),不會(huì)直接沖向陽(yáng)極。而是在電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的綜合作用在腔室內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)。同時(shí)獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進(jìn)行能量交換,使氣體及靶材原子離子化,dada提高氣體等離子體密度,從而提高了濺射速率(可提高10—20倍)和濺射均勻性。 真空鍍膜設(shè)備廠(chǎng)家有哪些?遼寧馳誠(chéng)真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)?湖南真空鍍膜設(shè)備特點(diǎn)

【真空鍍膜簡(jiǎn)介】: 真空(vacuum)是一種沒(méi)有任何物質(zhì)的空間狀態(tài),因?yàn)檎婵罩袥](méi)有介質(zhì),所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無(wú)法傳播的。1654年當(dāng)時(shí)的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國(guó)雷根斯堡進(jìn)行了一項(xiàng)實(shí)驗(yàn),從而證明了真空是存在的?,F(xiàn)在我們所說(shuō)的真空并不是指空間內(nèi)沒(méi)有任何物質(zhì),而是指在一個(gè)既定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài),我們把這種稀薄的狀態(tài)稱(chēng)為真空?,F(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金進(jìn)行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標(biāo)物體上。 在當(dāng)今電子行業(yè),很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝,雖然我國(guó)的真空鍍膜技術(shù)起步較晚,但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為:真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。 湖南真空鍍膜設(shè)備特點(diǎn)

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