【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】: 1. 加強去油去污處理,如是超聲波清洗,重點考慮去油,若是手擦,考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦; 2. 加強鍍前烘烤; 3. 有條件時,機組安裝冷凝及(POLYCOLD); 4. 提高真空度; 5. 有條件時,機組安裝離子源; 6. 膜料的去潮; 7. 保持工作環(huán)境的干燥; 8. 對于多層膜,在膜系設計時,就要考慮第yi層膜與基片的匹配; 9. 采取研磨液復新去除鏡片表面的腐蝕層; 10. 有時候適當降低蒸發(fā)速率對膜強度的提高有幫助,對提高膜表面光滑度有積極意義。 真空鍍膜設備日常怎么維護?四川陶瓷真空鍍膜設備
【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術,其特點是:設備相對簡單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化,應用相當guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。 中國臺灣真空鍍膜設備測試真空鍍膜設備怎么保養(yǎng)?
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】: 現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕。 可能成因有: 1. 膜結(jié)構(gòu)問題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過大,膜結(jié)構(gòu)粗糙 3. 溫差:鏡片出罩時內(nèi)外溫差過大 4. 潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全,膜結(jié)構(gòu)不均勻。 7. 膜與膜之間的應力 改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。 改善對策: 1. 改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧(加大),改善膜結(jié)構(gòu) 4. 適當降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結(jié)構(gòu) 5. 離子輔助鍍膜,改善膜結(jié)構(gòu) 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。
【真空鍍膜改善薄膜應力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤不要馬上停止,延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長,退火時效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中,基片溫度不宜過高,高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助,減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配,第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍,根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。 真空鍍膜設備真空四個階段。
【離子鍍膜法之射頻離子鍍】: 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是:基板溫升小,不純氣體少,成膜好,適合鍍化合物膜,但匹配較困難??蓱糜阱児鈱W器件、半導體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設備對周遭環(huán)境沒有不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前,該類型設備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉(zhuǎn)位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外,離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,感應離子加熱鍍,集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。真空鍍膜設備操作視頻。江蘇真空鍍膜設備應用
真空鍍膜設備參數(shù)怎么調(diào)?四川陶瓷真空鍍膜設備
【濺射的四要素】:①靶材物質(zhì),②電磁場,③底物,④一整套完整配備的鍍膜設備 【濺射收益】:1)離子每一次撞擊靶材時,靶材所釋放出的靶材原子;2)影響濺射收益的因素: ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素:①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì); 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】: 定義:每單位時間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個數(shù)。 濺射率的影響因素:①離子動能(取決于電源電壓和氣體壓力)②等離子密度(取決于氣體壓力和電流)。統(tǒng)計學公式:Rs(統(tǒng)計學)=d/t。 注:濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間,因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜,久之會產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進行定期清潔。 四川陶瓷真空鍍膜設備
成都國泰真空設備有限公司總部位于成都海峽兩岸科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)園科林西路618號,是一家一般項目:泵及真空設備制造‘泵及真空設備銷售;機械設備銷售;機械零件、零部件銷售;光學儀器銷售;光學玻璃銷售;功能玻璃和新型光學材料銷售;電子元器件批發(fā);技術服務、技術開發(fā)、技術咨詢、技術交流、技術轉(zhuǎn)讓、技術推廣。的公司。公司自創(chuàng)立以來,投身于光學鍍膜設備,真空鍍膜設備,光學真空鍍膜機,紅外鍍膜設備,是機械及行業(yè)設備的主力軍。國泰真空不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術為先導,以產(chǎn)品為平臺,以應用為重點,以服務為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,提供更優(yōu)服務。國泰真空始終關注機械及行業(yè)設備市場,以敏銳的市場洞察力,實現(xiàn)與客戶的成長共贏。