【離子鍍膜法介紹】: 離子鍍膜技術(shù)是在真空條件下,應(yīng)用氣體放電實現(xiàn)鍍膜的,即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍在基片上。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有:輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型,以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有:直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE)、空心陰極離子鍍(HCD)、射頻離子鍍(RFIP)等。 真空鍍膜設(shè)備廠家排名。廣西凈下真空鍍膜設(shè)備維修
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動,也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。河南多弧離子真空鍍膜設(shè)備報價真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)業(yè)集群。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】: 膜色差異有兩種(不含色斑),一種時整罩上、中、下膜色不一致,即分光測試曲線有差異;二是單片膜色不一致。 改善對策: 1. 調(diào)整修正版,盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,如果有兩個蒸發(fā)源,可能的條件下,獨li使用各自的修正板,避免干擾。 2. 條件許可,采用行星夾具。 3. 傘片整形。 4. 加強傘片管理。 5. 改善膜料狀況 6. 能夠自動預(yù)熔的膜料,盡量自動預(yù)熔 注:修正板對物理膜厚的修正有效,但對折射率的修正是力不從心的,所以完全靠修正板解決分光均勻性,是很困難的。如果一個修正板對應(yīng)二把電子搶(蒸發(fā)源)、以及多種膜料,就會有較大困難。
【濺射鍍膜定義】: 定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊,陽離子和靶材進行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個的動力學(xué)過程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時,將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動并波及周圍原子,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過程稱為級聯(lián)碰撞。級聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達到表面,克服勢壘逸出,這就形成了級聯(lián)濺射,這就是濺射機理。當(dāng)級聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時,動態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級聯(lián)碰撞。 真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜臟】: 顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括:灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等。 改善對策:檢討過程,杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境,防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣,防止鏡片污染。 5. 加快真空室護板更換周期。 6. 充氣管道清潔,防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流(湍流),初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機作業(yè)面板和主機隔開,減少主機產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。真空鍍膜設(shè)備公司排名。廣西凈下真空鍍膜設(shè)備維修
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【真空鍍膜真空濺射法】: 真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶材料表面進行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強;鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡單,操作方便,容易控制。 主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。 廣西凈下真空鍍膜設(shè)備維修
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