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福建真空鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-01-10

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜料點(diǎn)】: 膜料點(diǎn)不良也是鍍膜產(chǎn)品的一個(gè)常見問題,在日企、臺(tái)企把膜料點(diǎn)稱為“斑孔”。顧名思義,膜料點(diǎn)就是蒸鍍中,大顆粒膜料點(diǎn)隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點(diǎn)狀的突起,有時(shí)是個(gè)別點(diǎn),嚴(yán)重時(shí)時(shí)成片的細(xì)點(diǎn),大顆粒點(diǎn)甚至打傷基片表面。 改善對(duì)策: 1. 選擇雜質(zhì)少的膜料 2. 對(duì)易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網(wǎng)篩篩一下 4. 精心預(yù)熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時(shí),防止坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發(fā)舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去潮,將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥。 真空鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。福建真空鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】: 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;被鍍基體作為陰極,利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升大、繞射性好、附著性好,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤(rùn)滑機(jī)械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】: 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,有時(shí)需要對(duì)基板加熱;可用于鍍精密機(jī)械制品、電子器件裝飾品。 安徽小型真空鍍膜設(shè)備離子真空鍍膜設(shè)備是什么?

【真空鍍膜簡(jiǎn)介】: 真空(vacuum)是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài),因?yàn)檎婵罩袥]有介質(zhì),所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當(dāng)時(shí)的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國(guó)雷根斯堡進(jìn)行了一項(xiàng)實(shí)驗(yàn),從而證明了真空是存在的?,F(xiàn)在我們所說的真空并不是指空間內(nèi)沒有任何物質(zhì),而是指在一個(gè)既定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài),我們把這種稀薄的狀態(tài)稱為真空?,F(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金進(jìn)行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標(biāo)物體上。 在當(dāng)今電子行業(yè),很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝,雖然我國(guó)的真空鍍膜技術(shù)起步較晚,但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為:真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之劃痕(膜傷)】: 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個(gè)頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法,但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)劃痕: 1. 前工程外觀不良?xì)埩簟?2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密,搬運(yùn)過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷): 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對(duì)策: 1. 強(qiáng)化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運(yùn)方法 5. 改善擺放器具、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強(qiáng)前工程檢驗(yàn)和鍍前檢查 關(guān)于真空鍍膜設(shè)備,你知道多少?

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂)。鍍膜后離子轟擊幾分鐘,牢固度效果會(huì)更好。(但表面會(huì)變粗) 2. 鏡片取出真空室后,放置在較為干燥潔凈的地方,防止鏡片快速吸潮,表面硬度降低。 真空鍍膜設(shè)備哪個(gè)牌子的好?貴州真空鍍膜設(shè)備維修技術(shù)

真空鍍膜設(shè)備真空四個(gè)階段。福建真空鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】: 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓電流通過,對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡(jiǎn)單、造價(jià)便宜、使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對(duì)膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是:加熱所能達(dá)到的Zui高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國(guó)內(nèi)外已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。 福建真空鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)

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