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湖北光學(xué)鍍膜機(jī)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-01-13

    【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?;糜谡龑?duì)靶面的陽(yáng)極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽(yáng)極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。①反應(yīng)濺射法:即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上,適用濺射化合物膜。②高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過(guò)匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負(fù)電,在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),靶處于負(fù)的偏置電位,從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行,適用濺射絕緣膜。 廣東光學(xué)鍍膜機(jī)廠家。湖北光學(xué)鍍膜機(jī)

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同,波長(zhǎng)相同的光波疊加,那么光波的振幅增強(qiáng);如果二個(gè)光波原由相同,波程相差,如果這二個(gè)光波疊加,那么互相抵消了。 1)振幅條件:膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2)位相條件:膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí),d=555/4=139nm 對(duì)于減反射膜層,許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波(波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過(guò)薄(〈139nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色,如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過(guò)厚( 〉139nm)。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射,但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色,我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同,因此在鏡片中yang部分呈綠色,而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3)鍍減反射膜技術(shù) :有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫,而有機(jī)鏡片在超過(guò)100 °C時(shí)便會(huì)發(fā)黃,隨后很快分解。 湖北光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。

【光學(xué)鍍膜的理論】   鍍膜控制穿過(guò)光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí),波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時(shí),其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng),導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。   光的波長(zhǎng)和入射角通常是指定的,折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長(zhǎng)度,并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過(guò)單層增透膜例子說(shuō)明。   當(dāng)光傳輸穿過(guò)系統(tǒng)時(shí),在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了使反射Z小化,當(dāng)兩個(gè)反射部分在diyi界面處結(jié)合時(shí),我們希望它們之間具有180°相位差。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波,它可通過(guò)將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得Z佳實(shí)現(xiàn)。   必須考慮到的Z后一個(gè)參數(shù)是膜層的入射角。如果光的入射角改變,則每層的內(nèi)角和光程長(zhǎng)度都將受到影響;這將影響反射光束的相位變化量。使用非一般入射時(shí),S偏振光和P偏振光將從每個(gè)界面互相反射,這將導(dǎo)致兩個(gè)偏振光具有不同的光學(xué)性能。偏振分光計(jì)就是基于這一原理設(shè)計(jì)的。

    三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約~,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。 錦成國(guó)泰光學(xué)鍍膜機(jī)怎么樣?

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別:一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。光學(xué)鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。福建光學(xué)鍍膜機(jī)濺射機(jī)

成都國(guó)泰光學(xué)鍍膜機(jī)怎么樣?湖北光學(xué)鍍膜機(jī)

    (一)電子槍頭電子槍的***頭安裝好壞直接影響到工作的正常進(jìn)行,其發(fā)生的故障有90%同電子槍***頭有關(guān)。電子槍***頭有使用一段時(shí)間后,會(huì)因?yàn)榻M件的污染而影響電子束的成型及功率,需要拆卸清潔。(二)坩堝的維護(hù)拆坩堝之前,請(qǐng)先關(guān)掉水路用壓縮空氣把電子槍冷卻管內(nèi)的水分盡可能吹干凈。蒸發(fā)源裝卸順序:1.拆落兩條冷卻水連接管。2.擰出電子槍***頭連接高壓線兩個(gè)螺絲。3.拆坩堝傳動(dòng)連接座、聯(lián)軸器。4.擰落蒸發(fā)源四個(gè)固定螺絲。5.把蒸發(fā)源搬運(yùn)到一個(gè)穩(wěn)定平整的工作臺(tái)。6.拆落坩堝蓋板四個(gè)螺絲,取下蓋板打磨干凈。7.檢查蓋板上面兩個(gè)密封圈是否需要更換。8.把蒸發(fā)源反轉(zhuǎn)過(guò)來(lái)倒置,用木板墊住坩堝部分。9.擰下固定坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)四個(gè)螺絲10.抬起蒸發(fā)源,取下坩堝11.把坩堝倒置,擰下坩堝底蓋的八個(gè)螺絲,清洗干凈里面的污垢,檢查是否需要近密封圈。12.擰下導(dǎo)水管的一個(gè)螺絲13.擰下坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)與坩堝蓋板連接的四個(gè)螺絲14.撥出坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)軸,檢查轉(zhuǎn)動(dòng)軸的油封是否需要換件15.把坩堝清潔干凈安裝。安裝按上面的倒過(guò)順序來(lái)進(jìn)行。(三)導(dǎo)磁板及掃描圈的維護(hù)導(dǎo)磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護(hù),如需拆卸,請(qǐng)注意永磁鐵的極向,及導(dǎo)磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實(shí)。 湖北光學(xué)鍍膜機(jī)

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