【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點是基片相對于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨控制?；ǔ＝拥匚?，它和靶與高頻電路無關(guān)，不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實現(xiàn)對樣品臺的單獨控溫，就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造，設(shè)計、加工了專門的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上，可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導(dǎo)線引出與高精度的萬用表相連，以監(jiān)測薄膜生長過程中的樣品溫度。真空鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。上海求購二手真空鍍膜機

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對濕度：不da于70% 3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz； 6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。 此外，真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。 廣西真空鍍膜機常見問題與解決辦法真空鍍膜機的升級改造。

【真空鍍膜機概述】： 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構(gòu)造的五da系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設(shè)定目標(biāo)值；因此，只有當(dāng)三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn)；降低故障時間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機器利用率等。

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵（Rough Vacuum Pump）：一般用于抽粗真空，有油泵和 干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種： 旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達(dá)10&3Torr，抽速1~650CFM 隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM 往復(fù)式活塞泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速6~32CFM 渦旋式真空泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速12~25CFM 螺旋泵：干泵，極限真空10&3Torr，抽速30~318CFM 真空鍍膜機的主要用途？

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“zui終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場區(qū),zui后到達(dá)陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。 關(guān)于真空鍍膜機，你知道多少？遼寧真空鍍膜機的膜系

真空鍍膜機常見故障及解決方法。上海求購二手真空鍍膜機

【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。 　　基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。 　　對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至zui小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。 　　qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求。空氣濕度da的地區(qū)，除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。 上海求購二手真空鍍膜機

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