【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因?】 (1) 真空室有漏氣現象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現象而沒有經過檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長時間都不能抽得上來的;(2)即使真空室沒有漏氣,因為塑料產品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達到。真空室內太臟放氣,而且由于塑料產品的放氣,造成真空室內鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。 (3)也許是真空機組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。 (4)真空室有漏水。 (5)抽空管道有漏氣。 真空鍍膜機的工作原理。陜西卷繞式真空鍍膜機廠家
【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料: 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本:生產過程中,水、電的消耗是相當da的,特別是在氧化工序。機器本身的熱耗,需要不停地用循環(huán)水進行降溫,噸電耗往往在1000度左右。 環(huán)境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時在鋁電解生產中,陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 云南學生實驗真空鍍膜機真空鍍膜機故障維修技巧有哪些?
【真空鍍膜的膜層結構分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層:靶材蒸發(fā)的結果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。
【真空鍍膜機清洗工藝要求】真空工藝進行前應清洗真空材料,從工件或系統材料表面qing除污染物;真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的,因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。 污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”,根據污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體,它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看,它可以處于離子態(tài)或共價態(tài),可以是無機物或有機物。 暴露在空氣中的表面*易受到污染,污染的來源有很多種,*初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。 真空鍍膜機廠家qian十。
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數量級),濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前*實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術 濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室,排氣系統,濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputter gun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30- 40%,圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse), 直流:800-1000V(Max)導體用,須可災弧。 射頻:13.56MHZ,非導體用。 脈沖:泛用,*新發(fā)展出 真空鍍膜機的操作視頻。山東真空鍍膜機品牌
真空鍍膜機國內有哪些產商?陜西卷繞式真空鍍膜機廠家
【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則:(1)先功能,后結構。先給出指標參數、生產要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設計,后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標:鍍膜方法:CVD,PVD(蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復合鍍);被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產周期。生產量。生產速率。技術參數;設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 陜西卷繞式真空鍍膜機廠家
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