預(yù)先裝有特定于印版的默認(rèn)設(shè)置。這些設(shè)置順序可以編輯如果需要圖8.協(xié)議編輯器模式允許創(chuàng)建和編輯實(shí)驗(yàn)協(xié)議。協(xié)議由一系列環(huán)境組成控制和/或每個融合步驟。可以根據(jù)需要添加和更改步驟。準(zhǔn)備好協(xié)議后，可以使用“運(yùn)行”選項(xiàng)卡來執(zhí)行它。在下面概述的培養(yǎng)方案示例中，通過將壓力（27.6kPa[4ps]持續(xù)15秒）固定到孔組中，將ells從8孔加載6和8通過以345kPa（5psi）的流速流動4和5孔5分鐘，將未捕獲的細(xì)胞從腔室中沖洗掉。接下來的孔被灌注從孔1提取30分鐘的基線洗滌液或生長液。將Cls從孔2暴露于誘導(dǎo)劑1小時，然后將誘導(dǎo)劑用H2O沖洗掉。從1孔中洗滌或生長溶液30分鐘。在第3孔中對第二個誘導(dǎo)劑重復(fù)上述??兩個步驟。CAX2-MXT20歧管，使用setpaintof37吧。 規(guī)格產(chǎn)品訂購信息，續(xù)培益啟生物公司帶您了解微流控細(xì)胞芯片分析儀詳情。Merck儀器商家

位孔收集盤與底座中的定位銷對齊。注意：對于Mini和Midi框架，將單個清潔托盤放置在底座的**。對于多印跡如圖所示，在框架上放置兩個收集托盤。在MultiBlot框架中運(yùn)行單點(diǎn)印跡時，將空白的卡放在空的孔中，然后將孔下方的收集盤上有污點(diǎn)。4.將污漬固定框架放回底座上的位置。5.按照《通用規(guī)程》第6步和第7步中的指示，應(yīng)用一抗并進(jìn)行孵育。6.孵育10分鐘后，打開真空并等待一分鐘，以確保所有螞蟻都具有被收集。注意：當(dāng)同時處理兩個框架時，請先對一側(cè)進(jìn)行吸塵，然后再對另一側(cè)進(jìn)行吸塵。這確保在每個框架上具有完全的真空力，并改善體積回收率。7.關(guān)閉真空并卸下框架。卸下抗體收集盤。8.將抗體轉(zhuǎn)移到合適的容器中進(jìn)行存儲或分析。9.將印跡保持架放回原位，并繼續(xù)執(zhí)行通用規(guī)程的步驟9。 性能證明圖1. B-管蛋Merck儀器商家益啟生物的細(xì)胞計(jì)數(shù)器怎么樣？

有關(guān)詳細(xì)信息，請參見表2?！癫唤ㄗh在SNAP i.d. @ 2.0系統(tǒng)中剝離印跡。印跡已被剝離可以從阻塞步驟開始在SNAP i.d.o 2.0系統(tǒng)中對遵循標(biāo)準(zhǔn)協(xié)議的系統(tǒng)進(jìn)行重新探測。●如果不需要剝離（例如，如果使用其他二抗進(jìn)行檢測），則可以重新檢測印跡快速清洗后，立即在SNAP i.d.9 2.0系統(tǒng)中使用。 優(yōu)化準(zhǔn)則抗體已經(jīng)開發(fā)了優(yōu)化指南，以使用戶能夠轉(zhuǎn)換所用抗體的濃度將標(biāo)準(zhǔn)免疫檢測測定法濃縮至適用于SNAP i.d. @ 2.0系統(tǒng)的濃度。大多數(shù)用戶會能夠使用相同量的抗體，但與標(biāo)準(zhǔn)品相比，體積更小，濃度更高免疫檢測。但是，當(dāng)使用擴(kuò)展抗體方案（第12頁）時，可以使用相同的方法通常用于標(biāo)準(zhǔn)免疫檢測的一抗的濃度，體積和時間，其次是較高濃度的二抗，持續(xù)時間較短。表1.如何根據(jù)SNAP i.d.9

IlASICONIX2微流體系統(tǒng)用戶圖4.細(xì)胞捕獲機(jī)制設(shè)置說明指南。微型腔室將細(xì)胞輕輕地固定在玻璃上板底漆（可選）表面在基于灌注的分析過程中保持單個焦平面1.如果您的實(shí)驗(yàn)需要完全清理去除PBS，請更換實(shí)驗(yàn)BOA板的陷阱高度為o.7,0.9,1.1，1.3,2.3和溶液（1-5）和細(xì)胞入口（8）中的PBS與150uL您的4.5微米所需的底漆溶液歧管描述2.從6和7孔中吸出PBS溶液。CeIlASICDONK2加熱（CAX2-MXT20）或堿性（CAX2-MBC20）3.根據(jù)以下說明，將微流體板密封到ONIX2歧管上歧管將微流控板連接到CellASICONX2CellASICONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南。微流體系統(tǒng)。4打開CellASICONX2軟件，選擇一種新的實(shí)驗(yàn)選項(xiàng)，然后在下拉列表中找到Bo4高質(zhì)量的細(xì)胞分析儀，保證您的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

恢復(fù)正確放置戴姆·貝葉'底部的針腳。 '處理了兩幀首先對一幀施加真空，然后再對另一幀施加真空，以確保同時在每個框架上施加足夠的真空力。MultiBlot框架用于在MuHBlot框架中進(jìn)行單點(diǎn)印跡時，放置正確漢克處理一次印跡，然后空白卡在空井。未放入空白卡空井。 規(guī)格方面底座（長x寬x高）40.6厘米（16英寸）x 32.4厘米（12.751英寸）x 8.9厘米（3.5英寸）體重（大約）1.5kg（3.3磅）帶有Ild（長x寬x高）19.7厘米（7.75英寸）x 14.7厘米（5.8英寸）x 3.6厘米（1.4英寸）的多孔吸墨紙架多色持有人11.4厘米（4.5英寸）x 6.4厘米（2.5英寸）x具有l(wèi)Id的迷你框架（長x寬x高）19.7厘米（7.75英寸）x 14.7厘米（5.8英寸）x 3.細(xì)胞跨膜電阻儀品牌零售代理商家。Merck儀器商家

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（1）消除印跡和印跡支架之間的氣泡滾動墊（1）提供光滑的表面以用于組裝印跡潤濕托盤（2）用于潤濕吸墨紙架和吸墨紙抗體收集盤（2）收集抗體以進(jìn)行回收快速入門指南（未顯示）SNAP i.d.o 2.0 MultiBlot持有接受MultiBlot支架進(jìn)行印跡孵育SNAP2FRMB01框架和蓋子SNAP ID。@ 2.0迷你印跡保存接受Mini吸盤架進(jìn)行吸盤孵育SNAP2FRM***框架和蓋子SNAP2FRMNO2SNAP i.d. @ 2.0 Midi印跡控股接受Midi印跡支架進(jìn)行印跡孵育SNAP2FRMD01框架和蓋子SNAP2FRMD02SNAP i.d.o 2.0 MultiBlot固定器接受多達(dá)4.5倍8.4厘米的污點(diǎn)SNAP2BHMB050（包括2個MultiBlot孔空白）只在運(yùn)行Merck儀器商家